- 光刻胶种类及其成分最常用的有AZ-1350系列。正胶的主要优点是分辨率高，缺点是灵敏度、耐刻蚀性和附着性等较差。3、负性电子束光刻胶为含有环氧基、乙烯基或环硫化物的聚...2016-10-25 09:49:43
- 光刻过程中的缺陷分析能参数，仍然是光刻工艺质量控制的工作重点。 缺陷的种类在微流控芯片注塑、刻蚀、清洗、修饰、键合过程中都有可能产生各种缺陷，尤其是重复次数最多的光刻工...2016-10-20 10:37:19
- 光刻胶的涂敷和显影7、后烘（硬烘、坚膜）目的是使胶膜硬化，提高其在后续工序中的掩蔽性。8、刻蚀9、去胶...2016-10-20 09:00:02
- 微流控芯片加工需要哪些设备?历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程微通道结构...2016-10-19 10:49:04
- 光刻技术的基本原理历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。Photolithography（光刻） 意思是用光来制作一个图...2016-10-10 10:13:26
- 汶颢微流控芯片设计加工服务有雄厚的微流控芯片加工能力，保持国内芯片加工领域领先地位，配置了先进的软刻蚀有机芯片加工系统、光刻-掩膜无机芯片加工系统、数控CNC微加工系统，可以...2016-10-09 13:24:37
- 汶颢SU-8、AZ系列光刻胶简介阶等结构复杂的图形；在电镀时可以直接作为绝缘体使用。AZ光刻胶AZ光刻胶刻蚀厚度从1μm到150μm以及更厚。高感光度,高产出率；高附着性,特别为湿...2016-10-09 10:06:28
- 如何选购光刻胶？显影后的图像为上宽下窄的图像，而正性胶相反，为下宽上窄的图像。微流控芯片刻蚀如何选择光刻胶呢？一般来说线宽的用正胶,线窄的用负胶! 相对而言，正性光...2016-09-30 09:59:46
- 苏州汶颢具备哪些微流控芯片加工工艺”）具备雄厚的微流控芯片加工能力，保持国内芯片加工的领先。配置了先进的软刻蚀有机芯片加工系统、光刻-掩膜无机芯片加工系统、数控CNC微加工系统，可以...2016-09-27 09:18:19
- 浅谈芯片实验室的发展趋势手工为主的微机电(MEMS)技术生产逐渐朝自动化、数控化的亚紫外激光直接刻蚀微通道方向发展。2．将泵、阀、管道、反应器等集于一体，呈高度集成化。3．...2016-09-14 10:24:16
