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汶颢SU-8、AZ系列光刻胶简介

SU-8光刻胶 

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SU-8光刻胶克服了普通光刻胶采用UV光刻深宽比不足的问题,在近紫外光(365nm-400nm)范围内光吸收度很低,且整个光刻胶层所获得的曝光量均匀一致,可得到具有垂直侧壁和高深宽比的厚膜图形;它还具有良好的力学性能、抗化学腐蚀性和热稳定性;在受到紫外辐射后发生交联,是一种化学扩大负性胶,可以形成台阶等结构复杂的图形;在电镀时可以直接作为绝缘体使用。




AZ光刻胶

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AZ光刻胶刻蚀厚度从1μm到150μm以及更厚高感光度,高产出率;高附着性,特别为湿法刻蚀工艺改进;广泛应用于全球半导体行业。



产品型号

光刻胶名称型号匀胶厚度
Merck AZ /负可转换型光刻胶AZ 52140.5-6um
AZ 50XT 正胶AZ 50XT 40-80um
AZ 9260 正胶AZ 92606.2-15um
AZ 4620 光刻胶AZ 462010-15um
MicroChem SU-8 负胶SU-8 201513-38um
MicroChem SU-8 负胶SU-8 205040-170um
MicroChem SU-8 负胶SU-8 207560-240um
MicroChem SU-8 负胶SU-8 2150190-650um
MicroChem SU-8 负胶SU-8 30108-15um
MicroChem SU-8 负胶SU-8 305044-100um






标签:   光刻胶
手持式PDMS打孔器