- 光刻基本操作步骤定无误后，按照随工单上的要求制作。二、光刻的主要步骤：匀胶、前烘、曝光、显影、显影后检查匀胶：目的：在硅片表面均匀涂上一层厚度一定的光刻胶准备工作：...2017-10-25 09:31:42
- 干膜-PDMS转印微流控芯片加工技术流控芯片的加工中，加工基于PDMS材质的微流控芯片。包括贴光敏膜、曝光、显影、PDMS倒模等工艺过程。其特点是加工成本低廉（干膜成本接近于0）且精度...2017-10-17 11:49:48
- 微流控分析芯片的加工技术,用紫外光照射涂有光刻胶的基片,光刻胶发生光化学反应;(e)用光刻胶配套显影液通过显影的化学方法除去经曝光的光刻胶。这样，可用制版的方法将底片上的二...2017-10-12 09:24:20
- 等离子处理机原理及表面处理工艺方式，采用等离子体方法代替之后，不仅降低了工艺过程中的温度，还因将涂胶、显影、刻蚀、除胶等化学湿法改为等离子体干法，使工艺更简单，便于实现自动化，提...2017-10-10 08:55:54
- 光刻胶和光刻的基本流程阻、photoresist。4.1 正胶曝光后溶解性的变化：不溶——可溶显影后光刻胶上的图形与掩膜版上图形一致。优缺点：分辨率高，对比度高，线条边缘...2017-10-10 08:50:00
- 微混合技术的原理与应用在模拟 T 型微混合器内的气体混合特征时发现 , 入口角度对混合性能无明显影响 , 然 而在入口混合处引入小孔喷嘴形节流元件 , 同等混 合效果下 ...2017-10-09 19:12:00
- 正负光刻胶的缺点对比,线窄的用负性光刻胶! 相对而言，正性光刻胶比负性光刻胶的精度要高，负胶显影后图形有涨缩，负性胶限制在2~3μm.，而正性胶的分辨力优于0.5μm ...2017-10-09 17:41:05
- SU-8光刻胶光刻工艺形和胶的开裂.所以加热必须缓慢,冷却应在热板上随热板冷却到室温6) 超声显影，得到光刻胶图形7) 将SU-8光刻胶微结构在150℃-200℃下在热板...2017-10-09 17:36:09
- 应用于血液检测之生殖医学微流控芯片 Whitesite 教授之研究团队成功在纸质基材上进行光阻涂布、曝光、显影等标准微机电制程，成功制作世界上第一个纸做的微流控芯片。藉由上述步骤制作...2017-10-09 17:20:26
- 光刻胶模具加工工艺、烘胶台、紫外光刻机、数显恒温电热板等。耗材有：单晶硅片、掩膜、光刻胶、显影液 3.光刻胶模具制作流程①CAD微流控芯片设计图②菲林③铬版④光刻胶（...2017-10-09 17:14:32
