- URE-2000/25型光刻机产品名称：
中国光电URE-2000/25型光刻机
产品特点：
1、采用多反射镜实现均匀照明；
2、超精密手轮对准调节 ；
3、单片机控制,触摸开关操作； ...2017-10-30 16:47:21
- URE-2000S/25型光刻机产品名称：
中国光电URE-2000S/25型光刻机
技术参数：
1、曝光面积：100 mm×100mm（可升级为150 mm×150mm）
2、分辨力：1.2μm（胶厚2μm的正...2017-10-30 16:45:25
- URE-2000A型光刻机产品名称：
中国光电URE-2000A型光刻机产品特点：
◆ 曝光面积：150mm×150mm
◆ 分辨力：0.8-1μm（胶厚2μm的正胶）
◆ 对准精度：0.6μm
◆...2017-10-30 16:39:48
- URE-2000B型光刻机产品名称：
中国光电URE-2000B型光刻机URE-2000B型紫外光刻机主要技术特点： 该机采用i线紫外曝光光源，光学系统采用特殊的消衍射和线条陡直增强技术，采用积木错位绳眼透镜...2017-10-30 16:34:18
- 光刻机三种曝光方式优缺点对比接触式曝光接触式曝光是将掩膜与待加工基片的光胶层直接接触进行的曝光。掩膜和基片通过机械装置压紧或通过真空吸住等方法实现两者紧密接触。优点：设备简单、造...2017-10-25 09:49:06
- 光刻基本操作步骤是否有标明，若无，退回上步工序。确定无误后，按照随工单上的要求制作。二、光刻的主要步骤：匀胶、前烘、曝光、显影、显影后检查匀胶：目的：在硅片表面均匀...2017-10-25 09:31:42
- 中国大陆将迎来首台EUV光刻机2019年，中国大陆或将迎来首台EUV光刻机。日前，全球光刻巨头ASML(阿斯麦)正式澄清，EUV要进口到中国大陆完全没有任何问题!众所周知，芯片是电子产品所必不可少的组件，芯片制造商要...2017-10-25 09:28:40
- URE-2000/25型光刻机操作说明以及特性介绍URE-2000/25 型深度光刻机， 是在 URE-2000A 和 URE-2000B 基础上开发 成功的，其主要特点是： 灯源采用 200W 交流高压汞灯，曝光波长使用 36...2017-10-24 11:32:15
- 基于SU-8光刻胶的PDMS倒模加工技术基于SU-8光刻胶的PDMS倒模加工技术。通过使用传统的光刻方法，以SU-8光刻胶作为模具，可以制作基于PDMS材质的微流控芯片。特点是加工精度高，通道深宽比大...2017-10-16 13:30:50
- 光刻胶和光刻的基本流程图形的转移和实现电路图形（EDA设计）—（投影和离子束曝光）—掩膜版—（光刻）—光刻胶—（刻蚀/注入）—芯片2、光刻的基本原理光刻是通过光化合反应，...2017-10-10 08:50:00
