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等离子体处理机

  • 型号WH-1000Z
  • 模式

汶颢等离子体表面处理机是苏州汶颢芯片科技有限公司与中科院纳米产业化基地共同开发的用于微流控芯片表面处理的仪器。

  1. 详细信息

汶颢等离子体表面处理机是苏州汶颢芯片科技有限公司与中科院纳米产业化基地共同开发的用于微流控芯片表面处理的仪器,避免了同类仪器易使高分子聚合物表面发生分裂、刻蚀等现象,

等离子表面处理机具有以下特点:
      不带电,可以处理各种材料和制品,包括塑料、玻璃、金属或者带有电子元件的产品;
      温度低,适合应用于那些表面材料对温度敏感的制品;
      不需要箱体,可以直接安装在生产线上;
      只消耗空气和电,因此运行成本低,操作更安全;
      不产生臭氧,没有化学污染物排放,符合环保规范的要求。


等离子体处理原理介绍:
      汶颢等离子体处理设备由等离子发生器、气体输送系统及等离子喷头等部分组成。等离子发生器产生高压高频能量在腔体中被电离产生低温等离子体,借助气流将低温等离子体输送到腔体外,当等离子体与被处理物体表面相遇时,使材料表面产生了化学变化和物理作用,其表面分子链结构得到了改变,建立了羟基、羧基等自由基团,这些基团对材料键合具有促进其粘合的作用,在封合和表面亲水改性应用时得到了优化。在同样效果下,应用等离子体处理表面可以得到非常薄的高张力涂层表面,不需其他机械、化学处理等任何强烈作用成分来增加粘合性。

 

等离子体处理参数介绍:

      机台名称:低温等离子处理机
      机台型号:WH-1000Z
      主机规格:180mm (W)×400mm (D ) ×270mm (H)
      电源系统:AC220V(±20%)
      功率: 1000W
      处理宽度:10-40mm
      主机重量:25kg
      使用温度范围:-10℃~+40℃
      相对湿度:<93%(不结露)
      大气压力:86~106Kpa
      使用环境:-25℃~+55℃
      相对湿度:<93%(40℃);
      特点:针对三维物体均匀高效的处理,良好的操控性和兼容性,完善的功能和专业的技术支持。
      用途:适用于二维或者三维物体的表面清洗和表面活化,芯片键合、锡焊、电镀前的表面处理。

 

 


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