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    PTL-VR500 射频真空等离子表面处理系统

    • 型号PTL-VR500
    • 模式

    PTL-VR500等离子清洗机真空腔体尺寸5L,射频电源频率 13.56MHZ,功率 0-150W 调节,全电路保护,可连续长时间工作。

    1. 详细信息

    一、设备简介:

    PTL 系列低温等离子表面处理设备由真空腔体及高频等离子电源、抽真空系统、充气系统、自动控制系统 等部分组成。工作基本原理是在真空状态下,等离子作用在控制和定性方法下能够电离气体,利用真空泵将工作 室进行抽真空达到 30-40pa 的真空度,再在高频发生器作用下,将气体进行电离,形成等离子体(物质第四态), 其显著的特点是高均匀性辉光放电,根据不同气体发出从蓝色到深紫色的彩色可见光,材料处理温度接近室温。 这些高度活跃微粒子和处理的表面发生作用,得到了表面亲水性、拒水性、低摩擦、高度清洁、激活、蚀刻等 各种表面改性。

    等离子处理优点:

    1. 环保技术:等离子体作用过程是气- 固相干式反应 ,不消耗水资源、无需添加化学药剂,对环境无污染。

    2. 广适性:不分处理对象的基材类型,均可进行处理,如金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料都能很 好地处理;

    3. 温度低:接近常温,特别适于高分子材料,比电晕和火焰方法有较长保存时间和较高表面张力。

    4. 功能强:仅涉及高分子材料浅表面(10 -1000 埃),可在保持材料自身特性的同时,赋予其一种或多种 新的功能;

    5. 低成本:装置简单,易操作维修,可连续运行,往往几瓶气体就可以代替数千公斤清洗液,因此清洗成 本会大大低于湿法清洗。

    6. 全过程可控工艺:所有参数可由电脑设置和数据记录,进行工艺质量控制。

    7. 处理物几何形状无限制:大或小,简单或复杂,部件或纺织品,均可处理。

    二、技术参数

    1、设备外形尺寸: 450(W)×380(D)×330(H)mm

    2、真空仓体尺寸: Φ165×220(L)mm (5L)

    3、仓体结构: 高纯石英腔体,外置电感耦合电极,无污染,内置石英托盘。

    4、等离子发生器: 原装 PTL 公司射频电源,频率 13.56MHZ,功率 0-150W 调节,全电路保护,可连续长 时间工作。(风冷)。

    5、控制系统:PLC 触摸屏全自动控制,采用欧姆龙、施耐德等进口品牌电器元件,有手动、自动两种控制 模式,真彩台达触摸屏,西门子可编程控制器(PLC),美国产真空压力传感系统,可在线设定、修改、 监控真空压力、处理时间、等离子功率等工艺参数,并具有故障报警、工艺存储等多种功能。在自动模式 下设置各项工艺参数,即可一键启动,连续重复运行。手动模式用于实验工艺以及设备维护维修。

    、工艺流程:

    3.1 处理工艺流程 装入工件→抽真空→冲入反应气体→等离子放电处理→回冲气体→取出工件

    3.2 工艺控制:

    3.2.1 处理时间控制: 1 秒~120 分钟连续可调。

    3.2.2 等离子放电压力:30~80Pa

    3.2.3 功率设定范围:0~150W 连续可调

    3.2.4 流量设定范围: 气体 1(0~300ml/min) 气体 2(0~500ml/min)

    3.3 PLC 软件功能(操控界面)

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    3.3.1 主画面:实时监视并显示运行状态及数据,等离子电源功率、阀门开关、真空压力、运行时间等。

    3.3.2 参数设置:可设定、修改工艺参数及步骤

    3.3.3 工作状态:可在线查看真空压力、等离子功率等数据及状态

    3.3.4 故障报警:多种故障检测、报警及互锁保护。

    四、真空泵:VRD-8

    五、场地要求

    源:两相三线,独立接地,接地电阻≤2Ω。应使用截面积 3mm2以上的接地线将设备接至 PE。

    真空泵排放气管:软管,管径(内径)建议将排气管接至室外

    场地温度:≤40℃

    相对湿度:RH(35-85)%


    手持式PDMS打孔器