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    PTL-VM2000 等离子清洗机

    • 型号
    • 模式等离子清洗

    PTL-VM2000等离子清洗机可支持8英寸规格产品处理

    1. 详细信息

    一、PTL-VM2000 等离子清洗机设备简介:

    PTL-VM2000等离子清洗机可支持8英寸处理。

    PTL 系列低温等离子表面处理设备由真空腔体及高频等离子电源、抽真空系统、充气系统、自动控制系统等部分组成。工作基本原理是在真空状态下,等离子作用在控制和定性方法下能够电离气体, 利用真空泵将工作室进行抽真空达到 30-100pa 的真空度,再在高频发生器作用下,将气体进行电离,形成等离子体(物质第四态),其显著的特点是高均匀性辉光放电,根据不同气体发出从蓝色到深紫色的彩色可见光,材料处理温度接近室温。这些高度活跃微粒子和处理的表面发生作用,得到了表面亲水性、拒水性、低摩擦、高度清洁、激活、蚀刻等各种表面改性。

    等离子处理优点:

    1.环保技术:等离子体作用过程是气- 固相干式反应 ,不消耗水资源、无需添加化学药剂,对环境无污染。

    2.广适性:不分处理对象的基材类型,均可进行处理,如金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料都能很好地处理;

    3.温度低:接近常温,特别适于高分子材料,比电晕和火焰方法有较长保存时间和较高表面张力。

    4.功能强:仅涉及高分子材料浅表面(10 -1000 埃),可在保持材料自身特性的同时,赋予其一种或多种新的功能;

    5.低成本:装置简单,易操作维修,可连续运行,往往几瓶气体就可以代替数千公斤清洗液,因此清洗成本会大大低于湿法清洗。

    6. 全过程可控工艺:所有参数可由电脑设置和数据记录,进行工艺质量控制。

    7. 处理物几何形状无限制:大或小,简单或复杂,部件或纺织品,均可处理。

    二、PTL-VM2000 等离子清洗机技术参数

    1、设备外形尺寸: 600(W)×540(D)×1550(H)mm

    2、真空仓体尺寸: 240(W)*240(H)*400(D) 约 20L

    3、仓体结构: 航空铝合金腔体,内置容式耦合电极,电极尺寸 220(W) ×300(D) mm,5 层。

    4、等离子发生器: 德国 PTL 射频发生器技术,频率 40khz,功率 0-600W 调节,自动匹配,全电路保护,可连续长时间工作。(风冷)。

    5、控制系统:PLC 触摸屏全自动控制,采用欧姆龙、施耐德等进口品牌电器元件,有手动、自动两种控制模式,真彩台达触摸屏,西门子可编程控制器(PLC),美国产真空压力传感系统,可在线监控真空压力、处理时间、等离子功率等工艺参数,并具有故障报警、工艺存储等多种功能。在自动模式下设置各项工艺参数,可一键启动,连续重复运行。手动模式用于实验工艺以及设备维护维修。

    6、PTL-VM2000 采用立式结构设计,设备设计紧凑,整体一体化设计,采用全自动控制模式,适合于工厂中小批量产品生产。

    三、PTL-VM2000 等离子清洗机工艺流程:

    3.1 处理工艺流程

    装入工件→抽真空→冲入反应气体→等离子放电处理→回冲气体→取出工件

    3.2 工艺控制:

    3.2.1 处理时间控制: 1 秒~120 分钟连续可调。

    3.2.2 等离子放电压力:30~50Pa

    3.2.3 功率设定范围:0~600W 连续可调

    3.2.4 两路工艺气体流量设定范围: 气体 1(0~160ml/min) 气体 2(0~500ml/min)

    3.3 PLC 软件功能(操控界面)

    PTL-VM2000 等离子清洗机

    3.3.1 主画面:实时监视并显示运行状态及数据,等离子电源功率、气体流量、阀门开关、真空

    压力、运行时间等。

    3.3.2 参数设置:可设定、修改工艺参数及步骤。

    3.3.3 工作状态:可在线查看真空压力、等离子功率等数据及状态。

    33.4 故障报警:多种故障检测、报警及互锁保护。

    四、真空泵:双级旋片泵

    五、场地要求

    源:两相三线,独立接地,接地电阻≤2Ω。应使用截面积 3mm2以上的接地线将设备接至PE。

    真空泵排放气管:软管,管径(内径)建议将排气管接至室外。

    场地温度:≤40℃

    相对湿度:RH(35-85)%


    手持式PDMS打孔器