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    PTL-VM500 真空等离子表面处理系统

    • 型号PTL-VM500
    • 模式

    低温等离子表面处理设备由真空腔体及高频等离子电源、抽真空系统、充气系统、自动控制系统等部分组 成。工作基本原理是在真空状态下,等离子作用在控制和定性方法下能够电离气体,利用真空泵将工作室进行抽 真空达到 30-40pa 的真空度,再在高频发生器作用下,将气体进行电离,形成等离子体(物质第四态),其显 著的特点是高均匀性辉光放电,根据不同气体发出从蓝色到深紫色的彩色可见光,材料处理温度接近室温。这

    1. 详细信息

    低温等离子表面处理设备由真空腔体及高频等离子电源、抽真空系统、充气系统、自动控制系统等部分组 成。工作基本原理是在真空状态下,等离子作用在控制和定性方法下能够电离气体,利用真空泵将工作室进行抽 真空达到 30-40pa 的真空度,再在高频发生器作用下,将气体进行电离,形成等离子体(物质第四态),其显 著的特点是高均匀性辉光放电,根据不同气体发出从蓝色到深紫色的彩色可见光,材料处理温度接近室温。这 些高度活跃微粒子和处理的表面发生作用,得到了表面亲水性、拒水性、低摩擦、高度清洁、激活、蚀刻等各 种表面改性。

    技术参数

    1、设备外形尺寸: 450mm*400mm*240mm

    2、真空仓体尺寸: Φ151×300(L)mm (5L)

    3、仓体结构: 不锈钢腔体,内置容性耦合电极,无污染,内置石英托盘。

    4、等离子发生器: 射频,功率 0-300W 调节,全电路保护,连续长时间工作(风冷)。

    5、控制系统:PLC 触摸屏全自动控制,采用欧姆龙、施耐德等进口品牌电器元件,有手动、自动两种控制 模式,真彩台达触摸屏,西门子可编程控制器(PLC),美国产真空压力传感系统,可在线设定、修改、 监控真空压力、处理时间、等离子功率等工艺参数,并具有故障报警、工艺存储等多种功能。在自动模式 下设置各项工艺参数,即可一键启动,连续重复运行。手动模式用于实验工艺以及设备维护维修。

    工艺流程:

    1、处理工艺流程 装入工件→抽真空→冲入反应气体→等离子放电处理→回冲气体→取出工件

    2、工艺控制:

    2.1 处理时间控制: 1 秒~120 分钟连续可调。

    2.2 等离子放电压力:30~50Pa。

    2.3 功率设定范围:0~300W 连续可调。

    2.4 流量设定范围: 气体 1(0~300ml/min) 气体 2(0~500ml/min)。

    PLC 软件功能(操控界面)

    普特勒小型真空等离子表面处理系统界面

    主画面:实时监视并显示运行状态及数据,等离子电源功率、气体流量、阀门开关、真空压力、 运行时间等。

    参数设置:可设定、修改工艺参数及步骤。

    工作状态:可在线查看真空压力、等离子功率等数据及状态。

    故障报警:多种故障检测、报警及互锁保护

    PDMS 芯片键合应用

    普特勒小型真空等离子表面处理系统PDMS芯片键合应用

    PDMS 与载玻片键合效果

    键合后进行剥离实验,PDMS 撕裂后亦无法与载玻片分离,可见键合层的强度远远高于 PDMS 本身。 本系统工艺过程简单,成品率高,键合速度快,强度高,不会发生漏液现象。

    普特勒小型真空等离子表面处理系统PDMS 与载玻片键合效果

    手持式PDMS打孔器