- 光刻机的曝光模式：软接触，硬接触和真空接触。1.软接触 就是把基片通过托盘吸附住（类似于匀胶机的基片放置方式），掩膜盖在基片上面；2.硬接触 是将基片通过一个气压（...2016-12-08 14:34:46
- 微流控芯片加工过程中用到的仪器设备亲合性等发生明显变化。经适当的溶剂处理，溶去可溶性部 分，得到所需图像。匀胶机：用于光刻工艺前的光刻胶旋涂。即在高速旋转的基片上，滴注光刻胶，利用离...2016-12-05 14:58:36
- 微流控芯片实验室组建需要哪些设备工实验室封合实验室检测实验室光刻机真空脱泡机数控机床真空热压机光学显微镜匀胶机恒温鼓风干燥箱激光切割机等离子清洗机台阶仪烘胶台批量注塑机超声波打孔机...2016-11-25 15:13:51
- 微流控芯片加工实验室组建验室封合实验室检测实验室光刻机恒温鼓风干燥箱数控机床真空热压机光学显微镜匀胶机真空脱泡机激光切割机等离子清洗机台阶仪烘胶台批量注塑机超声波打孔机马弗...2016-11-08 08:58:30
- 洁净室的构成以及等级划分标准为几个级别：实验室中高温炉区、等离子区、测试区等要求达到千级等级；光刻、匀胶、显影工艺要求在百级超净间进行。微流控芯片加工实验室通常要求在洁净环境中...2016-11-07 08:48:09
- 光刻过程中的缺陷分析介质)、气流(净化环境)等因素引起随机分布的点缺陷。 每一次光刻需要经过匀胶、前烘、曝光、显影、坚膜、刻蚀、去胶等多次步骤，循环周期长。工艺过程中由...2016-10-20 10:37:19
- 微流控芯片加工需要哪些设备?底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程微通道结构临时“复制”到硅片上的...2016-10-19 10:49:04
- 光刻技术的基本原理thography（光刻） 意思是用光来制作一个图形（工艺）；在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅...2016-10-10 10:13:26
- 汶颢SU-8、AZ系列光刻胶简介特别为湿法刻蚀工艺改进；广泛应用于全球半导体行业。产品型号光刻胶名称型号匀胶厚度Merck AZ 正/负可转换型光刻胶AZ 52140.5-6umA...2016-10-09 10:06:28
- 汶颢芯片为您详细讲解微流控芯片加工仪器（效率高，操作傻瓜型，全自动）和高校教学科研（可靠性好，演示方便）。2、匀胶机汶颢芯片“KW-4A匀胶机”，主要用于光刻工艺中光刻胶旋涂。3、烘胶机...2016-09-29 10:35:16
