- 液滴微流控芯片系统中微液滴特性表征及氨基酸检购自美国MicroChem公司；等离子清洗机购自美国Harrick公司；匀胶机购自中国科学院微电子研究所；加热台购自谊华电子设备有限公司；紫外光刻机购...2018-01-17 09:29:56
- 光刻工艺所需药品及设备与操作步骤刻胶（正胶）、显影液：5‰ 氢氧化钠溶液、甲醇、蒸馏水、丙酮。实验仪器：匀胶机、烘胶台、光刻机、真空泵、气泵。二.光刻工艺实验步骤 1.清洁硅片：去离...2017-12-21 08:48:35
- 微流控芯片的环氧树脂SU-8模具制作技巧在微流控芯片加工过程中，通常都会用到模具，尤其是在PDMS芯片加工的过程中。PDMS芯片加工通常采用软光刻技术来制作。为了执行PDMS软光刻技术的加工...2017-12-15 10:09:37
- 玻璃、PMMA、PDMS微流控芯片加工中用到的仪器设备及用途说明片加工常用仪器设备及用途介绍：光刻机:对PDMS芯片的模板进行光刻加工。匀胶机：PDMS光刻模板匀胶加工。（推荐产品：WH-SC-01型台式匀胶机）P...2017-11-21 16:22:09
- 光刻基本操作步骤一、认真核对随工单：检查随工单上的工步与片子数是否与实际相符，如果正确，将其倒入黑盒中，用倒边器检查片子是否有崩边，若有则查对随工单上是否有标明，若无...2017-10-25 09:31:42
- 微流控芯片加工常用仪器设备、耗材及配件一、微流控芯片加工设备1、PDMS芯片加工设备：匀胶机、烘胶台、光刻机、真空干燥箱、PDMS打孔机、PDMS切割机、WH-AM-01 微流控芯片对准平台、等离子清洗机。2、玻璃芯片加工设备：匀胶机、...2017-10-10 08:48:08
- 光刻胶模具加工工艺上经过负性光刻胶光刻到硅阳模。2.光刻胶模具使用的仪器及耗材仪器设备有：匀胶机、烘胶台、紫外光刻机、数显恒温电热板等。耗材有：单晶硅片、掩膜、光刻胶、...2017-10-09 17:14:32
- 微纳加工- 玻璃芯片割打孔-高温键合。图为：刻蚀片图为：切割片微流控玻璃芯片加工使用仪器有：匀胶机、紫外光刻胶、恒温烘胶台、摇床等。微流控玻璃芯片加工使用到的试剂与耗材有...2017-10-09 16:38:00
- 光刻机的曝光模式：软接触，硬接触和真空接触。1.软接触 就是把基片通过托盘吸附住（类似于匀胶机的基片放置方式），掩膜盖在基片上面；2.硬接触 是将基片通过一个气压（氮...2016-12-08 14:34:46
- 微流控芯片加工过程中用到的仪器设备亲合性等发生明显变化。经适当的溶剂处理，溶去可溶性部 分，得到所需图像。匀胶机：用于光刻工艺前的光刻胶旋涂。即在高速旋转的基片上，滴注光刻胶，利用离心...2016-12-05 14:58:36
