- URE-2000/35型光刻机产品名称：
中国光电URE-2000/35型光刻机
技术特征：◆适合工厂（效率高，操作傻瓜型，全自动）和高校教学科研（可靠性好，演示方便）◆采用三爪找平，具备真空接触曝光、硬接触曝、压力接...2017-10-30 16:50:00
- URE-2000S/A型光刻机产品名称：
中国光电URE-2000S/A型光刻机
技术参数：
1、曝光面积：150 mm×150mm
2、分辨力：1μm（胶厚2μm的正胶）
3、对准精度：±3μm（双面,片...2017-10-30 16:48:01
- URE-2000/25型光刻机产品名称：
中国光电URE-2000/25型光刻机
产品特点：
1、采用多反射镜实现均匀照明；
2、超精密手轮对准调节 ；
3、单片机控制,触摸开关操作；
...2017-10-30 16:47:21
- URE-2000S/25型光刻机产品名称：
中国光电URE-2000S/25型光刻机
技术参数：
1、曝光面积：100 mm×100mm（可升级为150 mm×150mm）
2、分辨力：1.2μm（胶厚2μm的正胶...2017-10-30 16:45:25
- URE-2000A型光刻机产品名称：
中国光电URE-2000A型光刻机产品特点：
◆ 曝光面积：150mm×150mm
◆ 分辨力：0.8-1μm（胶厚2μm的正胶）
◆ 对准精度：0.6μm
◆ ...2017-10-30 16:39:48
- URE-2000B型光刻机产品名称：
中国光电URE-2000B型光刻机URE-2000B型紫外光刻机主要技术特点： 该机采用i线紫外曝光光源，光学系统采用特殊的消衍射和线条陡直增强技术，采用积木错位绳眼透镜实...2017-10-30 16:34:18
- 光刻机三种曝光方式优缺点对比接触式曝光接触式曝光是将掩膜与待加工基片的光胶层直接接触进行的曝光。掩膜和基片通过机械装置压紧或通过真空吸住等方法实现两者紧密接触。优点：设备简单、造...2017-10-25 09:49:06
- 中国大陆将迎来首台EUV光刻机2019年，中国大陆或将迎来首台EUV光刻机。日前，全球光刻巨头ASML(阿斯麦)正式澄清，EUV要进口到中国大陆完全没有任何问题!众所周知，芯片是电子产品所必不可少的组件，芯片制造商要想...2017-10-25 09:28:40
- URE-2000/25型光刻机操作说明以及特性介绍URE-2000/25 型深度光刻机， 是在 URE-2000A 和 URE-2000B 基础上开发 成功的，其主要特点是： 灯源采用 200W 交流高压汞灯，曝光波长使用 365...2017-10-24 11:32:15
- 面对垄断，自主研发高端光刻机实现国产化替代势在必行光刻机是芯片制作的核心设备之一，依照用处可以分为好几种：有用于出产芯片的光刻机；有用于封装的光刻机；还有用于LED制作领域的投影光刻机。我国用于出产芯...2017-08-10 14:36:55
