- 紫外光源：曝光系统最核心
常见光源分为:
紫外光（UV），g线：436nm;i线：365nm
深紫外光（DUV）...2015-01-30 16:11:16
- AZ 5214E 光刻胶详解：Lift-off 工艺专用正负反转光刻胶选型指南1 线步进式曝光机、接触式紫外曝光机通用光源波段：310~405nm 紫外光源，常规汞灯、LED 紫外曝光源均可匹配。3. 反转烘烤（图形反转核心步...2026-07-06 14:43:08
- AZ 5214E 光刻胶详解：Lift-off 工艺专用正负反转光刻胶选型指南1 线步进式曝光机、接触式紫外曝光机通用光源波段：310~405nm 紫外光源，常规汞灯、LED 紫外曝光源均可匹配。3. 反转烘烤（图形反转核心步...2026-07-06 14:43:08
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- 微液滴中的单细胞封装多能性人间充质干细胞或牛软骨细胞的微滴（图5A）。通过下游通道中的外部紫外光源对微滴进行光交联，以制备细胞负载微凝胶并保持高细胞活性。通过流式细胞术...2025-03-18 08:55:32
- 光刻胶的保存和老化失效曝光前保存数周而不会降低曝光的质量。但是需要注意保存条件，避免紫外（含紫外光源）的曝光，避免颗粒等污染物吸附在衬底上，部分特殊光刻胶需要注意空气气氛...2024-07-08 10:08:57
- 光刻胶的硬烘烤技术外壳”，在一定程度上保护了光刻胶结构不受加热的影响。如果没有可用的深度紫外光源，标准掩模对准式光刻机也可用g-线、h-线和i-线进行辐照。当然，这种...2024-07-01 11:48:28
- 微流控芯片制备加工方法墨技术可直接将墨滴喷射到电路板上，从而精确绘制电路图。③紫外光刻技术：紫外光源因为其具有较短的波长、高的光子能量、加工分辨率高等优势，在高精度加工领...2024-03-05 10:20:27
- 一文了解SU-8光刻胶得树脂变得易于溶解。化学放大光刻胶曝光速递是DQN光刻胶的10倍，对深紫外光源具有良好的光学敏感性，同时具有高对比度，对高分辨率等优点。 （化学放大...2023-07-25 08:58:21
- 量子点材料的研究现状及在光致发光和电致发光领域的应用了81；Lin等在柔性衬底上混合不同颜色cdse／Zns的量子点并使用紫外光源作为激发光，最高达到了96的显色指数。 此外，在量子点中引入有光...2019-10-31 14:17:55
