首页 > 技术资讯 > 技术学院

紫外光源:曝光系统最核心

       常见光源分为:

       紫外光(UV),g线:436nm;i线:365nm
       深紫外光(DUV),KrF 准分子激光:248 nm, ArF 准分子激光:193 nm
       极紫外光(EUV),10 ~ 15 nm
 
       对光源系统的要求
       a.有适当的波长。波长越短,可曝光的特征尺寸就越小;[波长越短,就表示光刻的刀锋越锋利,刻蚀对于精度控制要求越高,因为衍射现象会更严重。]
       b.有足够的能量。能量越大,曝光时间就越短;
       c.曝光能量必须均匀地分布在曝光区。[一般采用光的均匀度 或者叫 不均匀度 光的平行度等概念来衡量光是否均匀分布]
 
       常用的紫外光光源是高压弧光灯(高压汞灯),高压汞灯有许多尖锐的光谱线,经过滤光后使用其中的g 线(436 nm)或i 线(365 nm)。
       对于波长更短的深紫外光光源,可以使用准分子激光。例如KrF 准分子激光(248 nm)、ArF 准分子激光(193 nm)和F2准分子激光(157 nm)等。
       曝光系统的功能主要有:平滑衍射效应、实现均匀照明、滤光和冷光处理、实现强光照明和光强调节等。
 

标签:  紫外光源 曝光系统 光刻机
手持式PDMS打孔器