- 紫外光源：曝光系统最核心3 nm）和F2准分子激光（157 nm）等。
曝光系统的功能主要有：平滑衍射效应、实现均匀照明、滤光和冷光处理、实现强光照明...2015-01-30 16:11:16
- 光刻机是光刻工艺的核心设备 光刻机(lithography)又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版...2022-11-22 08:50:23
- 光刻技术图形转移工艺二：光刻材料及设备影响光刻的质量。因此要有高的成品率，就必须制作出高质的光刻掩膜版。3.曝光系统曝光机 将光刻掩膜版与涂上光刻胶的晶圆片对准，用一定波长的紫外光经过光...2018-06-07 08:41:19
- 投影式光刻机 Projection Photoetching Machines般采用步进-扫描式曝光。光源并不是一次把整个掩模上的图形投影在晶圆上，曝光系统通过一个狭缝式曝光带（slit）照射在掩模上，如1（a）所示。载有掩模...2017-12-29 09:04:54
- 光刻胶成分及用途胶的分辨率是一个综合指标，影响该指标的因素通常有如下3个方面：(1) 曝光系统的分辨率。(2) 光刻胶的对比度、胶厚、相对分子质量等。一般薄胶容易得...2017-10-31 17:26:19
- TSP Sheet Exposure System触摸屏用Sheet曝光机是触摸屏及LCD制造技术所需要的大面积曝光系统，是可实现微细线宽和高生产率的产品。Sheet曝光机产品的优秀性不仅能让客户的Needs得到满足，而且在开发下一代触摸屏方面，也发挥主导作用...2017-10-30 17:25:31
- URE-2000/25型光刻机操作说明以及特性介绍5nm，曝光面积φ100mm （可扩展为 150mm×150mm） 。曝光系统采用积木错位蝇眼透镜实现均匀照明 和平滑衍射效应。 掩模面的最大照度可...2017-10-24 11:32:15
- 光刻技术的基本原理什么是光刻机：光刻机又叫掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋...2016-10-10 10:13:26
- 微流控芯片制作与修饰光刻机/紫外曝光机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Align...2016-05-27 13:53:09
- 光刻机的简单介绍光刻机/紫外曝光机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Align...2016-04-18 11:54:16
