- 显影液主要成分及其性能分析苯、甲醇、卤化银、硼酸、对苯二酚等。有毒，不可直接接触肌肤，会严重腐蚀。显影液的浓度是指显影剂的相对含量，即NaOH、Na2SiO3总含量。当显影液...2016-12-20 16:21:22
- 光刻胶的涂敷和显影射下，以降解反应为主的光刻胶称为正性光刻胶，简称正胶。对于光刻胶的涂敷和显影，已下详细为大家讲解：1、脱水烘烤目的是去除硅片表面吸附的水分。2、增粘...2016-10-20 09:00:02
- SU-8光刻显影工艺介绍 SU8显影液SU-8光刻胶特性SU-8克服了普通光刻胶采用UV深宽比不足的问题，在...2016-08-31 10:04:12
- 光刻胶显影和光刻工艺摘要 简要介绍关于光刻胶的显影过程和光刻工艺处理的一些相关内容。引言光刻工艺可用五个指标来衡量其效果：分辨率、灵敏度、套刻对准精度、缺陷率和硅片加工过程处理问题，其中有 3 ...2016-08-26 09:51:03
- SU-8光刻胶模具选） ；5、 紫外曝光 ；6、 曝光后烘烤（光刻胶的第二次烘烤）；7、 显影 ；8、 硬烘烤（光刻胶的第三次烘烤）（可选） ；9、校验检查 。注：本...2024-05-06 23:51:44
- 光刻加工有一层光刻胶薄膜的硅晶圆片表面，引起曝光区域的光刻胶发生化学反应，再通过显影技术溶解去除曝光区域或未曝光区域的光刻胶（前者称正性光刻胶，后者称负性光...2024-05-06 23:51:44
- Microchem SU-8光刻胶 2000系列mJ/㎝?条件下进行曝光。曝光结束后，选择合适的烘烤温度及时间。将晶片在显影液中浸渍显影，随后用氮气吹干。SU-8光刻胶的优点1、SU-8光刻胶在近...2024-03-28 10:07:48
- WH-HP-01 烘胶台热平台，烤胶板，热台，热板等用途可在光刻工艺中的涂胶后的软烘，暴光后烘，显影后的坚膜，磨片粘片熔腊等。产品采用整体铸造，加热板作为加热体，增强了设备...2022-02-23 14:31:20
- 汶颢股份产品服务一览表（2020）微流控芯片加工设备PDMS芯片加工设备：PDMS脱泡固化一体机、匀胶机、显影机、点胶机、烘胶台、光刻机、真空干燥箱、PDMS打孔机、PDMS切割机、...2020-04-16 17:20:54
- 如何组成一套微芯片系统？如红外线、微波、紫外线、X射线等等。通过光谱仪对光信息的抓取、以照相底片显影，或电脑化自动显示数值仪器显示和分析，从而测知物品中含有何种元素。 电化...2016-05-12 10:44:45
