- URE-2000/35型光刻机，具备真空接触曝光、硬接触曝、压力接触曝以及接近式曝光四种功能◆自动分离对准间隙和消除曝光间隙，采用350W进口（德国）直流汞灯，可调节光的能量密度...2017-10-30 16:50:00
- URE-2000S/A型光刻机 mm×150mm
2、分辨力：1μm（胶厚2μm的正胶）
3、对准精度：±3μm（双面,片厚0.8μm），±0.8μm（单面）
4、掩...2017-10-30 16:48:01
- URE-2000/25型光刻机：
1、采用多反射镜实现均匀照明；
2、超精密手轮对准调节 ；
3、单片机控制,触摸开关操作；
4、高倍率双目双视...2017-10-30 16:47:21
- URE-2000S/25型光刻机×150mm）
2、分辨力：1.2μm（胶厚2μm的正胶）
3、对准精度：±3μm（双面，片厚0.8μm），±0.8μm（单面）
4、掩...2017-10-30 16:45:25
- URE-2000A型光刻机150mm
◆ 分辨力：0.8-1μm（胶厚2μm的正胶）
◆ 对准精度：0.6μm
◆ 掩模样片整体运动范围：X：6mm;Y:6mm...2017-10-30 16:39:48
- URE-2000B型光刻机，采用积木错位绳眼透镜实现高均匀照明，并配备了双目双视显微镜和CCD图象对准系统（可同时使用），曝光能量高，聚光角度小，突具厚胶曝光功能，曝光设定采...2017-10-30 16:34:18
- 光刻基本操作步骤表”）HOW MANY WAFERS = _1_待片子上到载片台后，手动对准标记进行曝光，显影，检验，确认无误后，对硅片继续进行曝光曝光时间确定表显...2017-10-25 09:31:42
- URE-2000/25型光刻机操作说明以及特性介绍，曝光面积 φ100mm)，照度可通过曝光系统内部的可变光栏进行调节。 对准采用双目双视场对准显微镜（可添加 CCD 对准系统） ，对准显微镜 的有...2017-10-24 11:32:15
- 光刻胶和光刻的基本流程征图形区别开来的能力套准精度：光刻要求硅片表面存在的图案与掩膜版上的图形对准，此特性指标就是套准精度关键尺寸：硅片上形成图形的实际尺寸即特征尺寸，最...2017-10-10 08:50:00
- 微流控芯片加工常用仪器设备、耗材及配件真空干燥箱、PDMS打孔机、PDMS切割机、WH-AM-01 微流控芯片对准平台、等离子清洗机。2、玻璃芯片加工设备：匀胶机、烘胶台、光刻机、摇床、...2017-10-10 08:48:08
