- 匀胶显影设备工艺原理、结构及常见故障分析的照射引起工艺问题。热烘异常：软烘的主要参数是时间和温度，二者会影响图形定义好坏和刻蚀工艺中光刻胶与晶圆表面黏结性的质量。软烘时间或温度异常，可能会...2023-12-22 09:53:09
- 光刻工艺介绍光刻技术发展大多数IC模型从电路功能的定义开始。如果一个电路的作用很多很复杂的话，就可以将它分为多个方面的子功能。二级功能块放置在整体的布局和规划之中，为芯片分配空间以供未来规划。在这个...2023-12-21 10:56:32
- 用于病毒感染的微流控即时诊断传感器的最新进展述了微流控在即时（POC）诊断中的应用，重点关注病毒感染的快速诊断。引言定义了 POC 诊断，并强调了快速诊断病毒感染的重要性。讨论了微流体在诊断中...2023-12-04 10:55:17
- 惯性微流控制备方法综述度力将颗粒引向壁面，而壁面抬升力将颗粒推离壁面。先前的研究证明，阻塞率（定义为颗粒直径与通道水力直径之比）必须超过阈值 0.07 才能有效聚焦颗粒。...2023-11-28 11:03:11
- 压力驱动电解质液体流过不对称充电非均匀微流体装置时的电粘性效应它由致密层（或斯特恩层）和漫反射层组成;位于 EDL 这些层之间的界面被定义为“剪切平面”。Zeta电位（ζ）是剪切（或滑移）平面上的电位），它在从...2023-11-27 11:24:30
- 微流控光刻技术的微粒子研究现状及应用进展空间。（1）上述微粒子的形状通常由微通道（沿x轴）和UV光（沿z轴）交叉定义的相交空间决定，沿第三轴（y轴）的形状控制需要进一步开发，从而进一步提高...2023-11-02 11:23:23
- 黏性牛顿流体液滴撞击干燥或预湿网面的实验研究常分为以下3种: 韦伯数较低时, 撞击液滴在网面上扩散, 不穿透网面, 定义为不穿透; 在韦伯数较高时, 液滴撞击网面后在网面下方形成液指, 液指不...2023-10-30 10:37:28
- T型微通道反应器内气液两相流动机制及影响因素下微通道内气液两相流型随液相毛细数Ca和气相压强Pg的分布. 毛细数Ca定义为 式中,μl是连续相液相的黏度,σ是表面张力系数,vl是连续相液相的流...2023-10-19 11:33:35
- 关键构型参数对流动聚焦式微流控液滴生成的影响5(a)所示相图中液滴长度和射流长度随D和Q1的变化规律, 其中液滴长度定义为液滴的轴线长度, 射流长度定义为从下游毛细管端口到离散相液丝的断裂位置...2023-09-19 10:06:12
- 利用微流控层流实现多种先进聚合物薄膜用微流控层流制备先进聚合物薄膜策略示意图如图1所示，将单个微通道内的层流定义为单通道微流控层流。单通道微流控层流可以通过适当的成膜方法（如离子交联、...2023-09-04 10:04:47
