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  • 使用匀胶机旋涂微流控SU-8光刻胶在微流控PDMS芯片或SU-8模具制作的过程中,需要把PDMS胶或SU-8光刻胶根据所需要的厚度来选择合适的旋涂转速并且使PDMS胶或SU-8胶涂布均匀化。基底上SU-8...2017-12-18 08:59:39
  • 微流控SU-8光刻胶烘烤注意事项在微流控PDMS芯片加工的过程中,需要使用热板对SU-8光刻胶或PDMS聚合物进行烘烤。SU-8光刻胶的烘烤通常需要进行2-3次。本文简要介绍SU-8光刻胶烘烤的注意事项。微流控SU-8光刻胶烘烤...2017-12-18 08:52:46
  • 微流控芯片的环氧树脂SU-8模具制作技巧术的加工过程,通常您需要用到模板,最常规和经常使用的模板一定是环氧树脂SU-8模具。每年都会有许多实验室从事微流控芯片的加工活动,并且有时会使用不好...2017-12-15 10:09:37
  • 基于SU-8光刻胶的PDMS倒模加工技术基于SU-8光刻胶的PDMS倒模加工技术。通过使用传统的光刻方法,以SU-8光刻胶作为模具,可以制作基于PDMS材质的微流控芯片。特点是加工精度高,通道...2017-10-16 13:30:50
  • SU-8光刻胶光刻工艺SU-8光刻胶工艺路线及工艺流程1) 对衬底进行清洗,并在200℃烘30分钟以上以去除表面水分子2) 用厚胶甩胶工艺在基片表面旋涂所需要厚度的SU-8...2017-10-09 17:36:09
  • SU-8 光刻胶及光刻工艺个结构的高度可以有一个很好的尺寸控制。 SU- 8 光刻胶可用环氧树脂SU-8溶解在有机溶剂 GBL ( gamma- butyrolactone ...2017-08-31 11:32:06
  • SU-8光刻胶的光刻工艺 新型的化学增幅型负像SU-8光刻胶克服了普通光刻胶采用UV光刻深宽比不足的问题,十分适合于制备高深宽比微结构,因此SU-8胶是一种负性、环氧树脂型、近紫外线光刻胶。它在...2016-11-28 10:30:08
  • 汶颢SU-8、AZ系列光刻胶简介SU-8光刻胶     SU-8光刻胶克服了普通光刻胶采用UV光刻深宽比不足的问题,在近紫外光(365nm-400nm)范围内光吸收度很低,且整个光刻...2016-10-09 10:06:28
  • SU-8光刻显影工艺介绍                             SU8显影液SU-8光刻胶特性SU-8克服了普通光刻胶采用UV深宽比不足的问题,在近紫外光...2016-08-31 10:04:12
  • 芯片定制MS芯片加工工艺:光刻/倒模。运用倒模工艺制作PDMS芯片的尺寸取决于SU-8反模的尺寸。不同的SU-8型号最适加工深度不同,一般需要客户提供最小线...2024-04-29 19:00:49