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- 负压驱动皮升级等温核酸精确定量微流控芯片 于95 ℃烘烤15 min。然后将有微通道图样的掩膜紧贴在光胶上, 紫外曝光20 s。再次升温至95 ℃, 保持5 min。旋涂SU-8 2025...2018-07-10 08:46:34
- 液滴微流控芯片系统中微液滴特性表征及氨基酸检U-82025光胶，并在95℃下预烘30min；待其冷却后在光刻掩模下紫外曝光20s，在95℃烘40min；将未曝光的光胶用丙二醇甲醚醋酸酯和丙三醇...2018-01-17 09:29:56
- 微流控芯片的环氧树脂SU-8模具制作技巧一次烘烤） 4、 边缘光刻胶的去除（可选） 5、 紫外曝光 6、 曝光后烘烤（光刻胶的第二次烘烤） 7、 显...2017-12-15 10:09:37
- 光刻胶成分及用途是一大类具有光敏化学作用(或对电子能量敏感)的高分子聚合物材料，是转移紫外曝光或电子束曝照图案的媒介。光刻胶的英文名为resist，又翻译为抗蚀剂、...2017-10-31 17:26:19
- URE-2000B型光刻机光刻机URE-2000B型紫外光刻机主要技术特点： 该机采用i线紫外曝光光源，光学系统采用特殊的消衍射和线条陡直增强技术，采用积木错位绳眼透镜...2017-10-30 16:34:18
- 基于蜡打印技术的纸基微流控芯片加工技术0?m。喷蜡技术制成的纸基微流控芯片喷涂在透明聚合物材料上的蜡层（充当紫外曝光制作微流控芯片的掩膜板）其他微流控芯片加工方法：微纳热压印技术。通过在...2017-10-18 09:11:06
- 基于电化学刻蚀与微电铸工艺膜型腔 作为填充的空间，胶膜采用 SU-8 胶 制作，曝光工艺使用休斯紫外曝光 机，型号 MA/BA6SUSS MicroTec。经 过匀胶、静置、...2017-10-10 08:38:48
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- 微流控芯片制作与修饰法用激光直接在聚合物或玻璃上加热形成微结构所需仪器设备光刻机:光刻机/紫外曝光机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系...2016-05-27 13:53:09
