- 微纳加工 - 纯硅模具加工工艺 & 硅片模具程（a）硅片的清洗、烘干（b）热生长氧化层（c）涂光刻胶（d）光刻（e）显影（f）去除氧化层（g）ICP深刻蚀（h）去除光刻胶2.纯硅模具加工说明2...2017-10-09 16:49:26
- 微纳加工- 玻璃芯片芯片-湿法刻蚀方法及加工过程中使用到的仪器及试剂、耗材湿法刻蚀方法：光刻显影-湿法刻蚀-去胶去铬-激光切割打孔-高温键合。图为：刻蚀片图为：切割片微...2017-10-09 16:38:00
- SU-8 光刻胶及光刻工艺外 7 个环氧基, 再经扩展交联就形成了致密 的交联网络。这种网络不溶于显影液中。而未经曝光的区域, 光刻胶未发生交联, 则溶于显影液中, 因此显影...2017-08-31 11:32:06
- 集成微流控芯片明 部分接受紫外照射后发生交联反应而聚合, 未经过紫外照射的区域则可以被显影液溶解, 之后硅片及其表面上剩下的突起的SU-8 结构构成制作 PDMS...2017-08-29 10:02:02
- 光刻胶系列-化学放大型抗蚀剂及其重要概念烤）。曝光和PEB之间的时间为间歇2.硅晶片在碱溶液（四甲基氢氧化铵）中显影。...2017-08-25 09:07:57
- 微流控芯片层流技术刻掩膜 ,然后用紫外光照射。由于通道表面涂覆的光刻胶具有一定浓度梯度 ,显影后得到的微通道也具有一定的大小梯度 ,继而得到不同深宽比的微通道 ,可将...2017-08-24 09:50:32
- 光刻胶及光刻工艺流程PR）又称光致抗蚀剂，它是一种对光敏感的有机化合物，它受紫外光曝光后，在显影液的溶解度会发生变化。①光刻胶作用：将掩膜板上的图形转移到晶圆表面顶层的...2017-08-23 10:15:02
- 正负性光刻胶分类供AZ 光刻胶（正胶）系列和SU-8光刻胶（负胶）系列，另外相关去胶液、显影液有售。原装进口，品质保证！0512-62525802 来电咨询光刻胶价...2017-08-22 13:05:14
- 生物芯片与微流控技术性好、厚度适当的光刻胶。胶膜太薄，易生成针孔，抗蚀能力差；太厚则不易彻底显影，同时会降低分辨率。光刻胶的实际厚度与它的粘度有关，并与甩胶机的旋转速度...2017-08-22 11:04:10
- 微流控合成条件技术选择如下图：1.芯片制作步骤及技术玻璃等芯片制作的主要步骤包括：涂胶、曝光、显影、腐蚀、去胶、键合高分子聚合物芯片的制作技术主要包括：热压法、模塑法、注...2017-08-21 11:03:20
