- 匀胶机旋涂仪工作原理以及匀胶工艺常见问题包括滴胶，高速旋转以及干燥(溶剂挥发)几个步骤。滴胶这一步把光刻胶滴注到基片表面上，高速旋转把光刻胶铺展到基片上形成簿层，干燥这一步除去胶层中多余的...2017-12-04 13:32:44
- 热压法快速制作微流控芯片模具MS微流控芯片制作流程示意图(1) 玻璃母模的制作。以商品匀胶铬板玻璃为基片,光刻后置于玻璃腐 蚀液中,40℃水浴腐蚀15min,在丙酮中浸泡振荡 ...2017-12-01 10:05:25
- 微流控芯片玻璃石英材料热键合概述。 含二氧化硅材料之间的热键合也称为硅熔键合。将贴合在一起的基片放在高温炉中加热到500-1000℃后退火，界面上发生化学反应，使两块基...2017-11-06 09:45:55
- 光刻胶成分及用途过光刻或电子束曝光形成光刻胶或抗蚀剂掩膜； 第二步是将制作有光刻胶图形的基片放在电镀液中与被镀金属电极连接成电流通路，金属电极在电解液作用下释放金属...2017-10-31 17:26:19
- URE-2000A型光刻机寸、6英寸）
◆掩模夹4个（3英寸、4英寸、5英寸、7英寸）
◆基片抽拉式上下机构
（3）对准显微镜
◆光源（配备品2只）、电源
...2017-10-30 16:39:48
- KW-5型匀胶机-5型匀胶机产品介绍：
KW型匀胶机适应于半导体硅片，载玻片，晶片，基片，ITO导电玻璃等工艺，制版的表面涂覆。
KW-5型匀胶机产品特点...2017-10-30 16:17:51
- KWH-4A-120S匀胶机应用于溶胶-凝胶(sol-gel)实验中的薄膜制作，其工作原理是高速旋转基片，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀的涂布在基片上，厚度视不同胶液和基片间...2017-10-30 16:14:42
- 光刻机三种曝光方式优缺点对比接触式曝光接触式曝光是将掩膜与待加工基片的光胶层直接接触进行的曝光。掩膜和基片通过机械装置压紧或通过真空吸住等方法实现两者紧密接触。优点：设备简单、造价便宜、分辨率较高，约1-2?m。...2017-10-25 09:49:06
- 单晶硅片用途于各个领域，在军事电子设备中也占有重要地位。 汶颢股份提供各种材质微流控基片，如：抛光硅片、光敏玻璃、硼硅玻璃、PMMA板等。欢迎来电咨询。...2017-10-19 10:24:13
- 微流控分析芯片的加工技术工艺光刻是用光刻胶、掩模和紫外光进行微制造 ,工艺如下 :(a)仔细地将基片洗净;(b)在干净的基片表面镀上一层阻挡层 ,例如铬、二氧化硅、氮化硅等...2017-10-12 09:24:20
