- 汶颢SU-8、AZ系列光刻胶简介SU-8光刻胶 SU-8光刻胶克服了普通光刻胶采用UV光刻深宽比不足的问题，在近紫外光（365nm-400nm）范围内光吸收度很低，且整个光刻胶层所获...2016-10-09 10:06:28
- 如何选购光刻胶？光刻加工工艺中为了图形转移，辐照必须作用在光刻胶上，通过改变光刻胶材料的性质，使得在完成光刻工艺后，光刻版图形被复制在圆片的表面。而加工前，如何选用光刻胶在很大程度上已经决定了光刻的精度。尽管...2016-09-30 09:59:46
- 光刻胶显影和光刻工艺摘要 简要介绍关于光刻胶的显影过程和光刻工艺处理的一些相关内容。引言光刻工艺可用五个指标来衡量其效果：分辨率、灵敏度、套刻对准精度、缺陷率和硅片加工过程处理问题，其中有...2016-08-26 09:51:03
- 光刻胶的类型和优缺点分析一、光刻胶的类型凡是在能量束（光束、电束、离子束等）的照射下，以交联反应为主的光刻胶称为负性光刻胶，简称负胶。凡是在能量束（光束、电束、离子束等）的照射下...2016-08-23 10:12:23
- 光刻胶的主要技术参数是什么Critical Dimension）来衡量分辨率。形成的关键尺寸越小，光刻胶的分辨率越好。
2、对比度（Contrast）。指...2015-03-31 11:44:57
- 汶颢主营业务的组件/配件/耗材：接头、夹具、微阀、微泵、微控制器、微电极、芯片基材、光刻胶、PDMS、以及其他耗材； 4）微流控芯片相关设备：微流控芯片加工、微流...2024-05-19 08:25:31
- 硅片模具，影响浇注；可用无尘布蘸取丙酮或乙醇小心进行擦拭，防止损坏；注意不可接触光刻胶图形。?PDMS混合时，需混合均匀且脱气之后再进行浇筑。?浇注PDMS时...2024-05-19 08:25:31
- 光刻加工oetching or Lithography）是一种图像复印技术，利用光刻胶感光后特性发生改变的原理，将光刻掩膜版的图形精确地复印到涂在硅晶圆片上的...2024-05-19 08:25:31
- 高深宽比光敏玻璃7、高度质量均一性：先进的熔制工艺确保光敏性均一且具高度重现性；8、无需光刻胶即可制作微结构；9、极佳的透光特征（同时表现在可见区和非可见区）；10、...2020-08-21 09:54:51
- 诚邀合伙人 B轮融资的组件/配件/耗材：接头、夹具、微阀、微泵、微控制器、微电极、芯片基材、光刻胶、PDMS、以及其他耗材；4）微流控芯片相关设备：加工、封合、微流体驱动...2020-04-17 13:42:14
