- 投影式光刻机 Projection Photoetching Machines投影式光刻机一般采用步进-扫描式曝光。光源并不是一次把整个掩模上的图形投影在晶圆上，曝光系统通过一个狭缝式曝光带（slit）照射在掩模上，如1（a）所示。...2017-12-29 09:04:54
- 微流控SU-8光刻胶的紫外曝光SU-8光刻胶UV曝光的目的是通过部分SU-8光刻胶的PAC（PhotoActiv Component）激活/活化来引发交联。这种活化将会改变SU-8的局部...2017-12-21 08:58:06
- 光刻工艺所需药品及设备与操作步骤光刻是一种复印图象与化学腐蚀相结合的综合性技术，它先采用照像复印的方法，将光刻掩模板上的图形精确地复制在涂有光致抗蚀剂的SiO2层或金属蒸发层上，在适...2017-12-21 08:48:35
- 使用匀胶机旋涂微流控SU-8光刻胶微流控PDMS芯片或SU-8模具制作的过程中，需要把PDMS胶或SU-8光刻胶根据所需要的厚度来选择合适的旋涂转速并且使PDMS胶或SU-8胶涂布均...2017-12-18 08:59:39
- 微流控SU-8光刻胶烘烤注意事项在微流控PDMS芯片加工的过程中，需要使用热板对SU-8光刻胶或PDMS聚合物进行烘烤。SU-8光刻胶的烘烤通常需要进行2-3次。本文简要介绍SU-8光刻胶烘烤的注意事项。微流控SU-8光刻胶烘烤：软烘、...2017-12-18 08:52:46
- 光刻胶：国产化势不可挡光刻胶是在微电子制造业中实现精细线路及图形加工工艺的核心材料。光刻技术利用光刻胶在辐射前后溶解度的差异来转移图案，不同光刻胶及曝光光源的组合会得到不同...2017-11-22 11:17:40
- 光刻胶成分及用途1.光刻胶定义光刻胶是一大类具有光敏化学作用(或对电子能量敏感)的高分子聚合物材料，是转移紫外曝光或电子束曝照图案的媒介。光刻胶的英文名为resist，...2017-10-31 17:26:19
- URE-2000/35型光刻机产品名称：
中国光电URE-2000/35型光刻机
技术特征：◆适合工厂（效率高，操作傻瓜型，全自动）和高校教学科研（可靠性好，演示方便）◆采用三爪找平，具备真空接触曝光、硬接触曝、压力...2017-10-30 16:50:00
- URE-2000S/A型光刻机产品名称：
中国光电URE-2000S/A型光刻机
技术参数：
1、曝光面积：150 mm×150mm
2、分辨力：1μm（胶厚2μm的正胶）
3、对准精度：±3μm（双面,...2017-10-30 16:48:01
- URE-2000/25型光刻机产品名称：
中国光电URE-2000/25型光刻机
产品特点：
1、采用多反射镜实现均匀照明；
2、超精密手轮对准调节 ；
3、单片机控制,触摸开关操作； ...2017-10-30 16:47:21
