Microchem SU-8光刻胶2000系列|进口负性光刻胶_汶颢股份
SU8光刻胶
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    Microchem SU-8光刻胶 2000系列

    • 型号SU-8 2000.5/2002/2005/2007/2010/2015

    进口SU-8光刻胶系列,克服了普通光刻胶采用UV光刻深宽比不足的问题,在近紫外光(365nm-400nm)范围内光吸收度很低,且整个光刻胶层所获得的曝光量均匀一致,可得到具有垂直侧壁和高深宽比的厚膜图形。

    1. 详细信息

    SU 8光刻胶系列产品简介:

    新型的化学增幅型负像 SU- 8 胶是一种负性、环氧树脂型、近紫外线光刻胶,克服了普通光刻胶采用 UV光刻导致的深宽比不足的问题,十分适合于制备高深宽比微结构。SU- 8 光刻胶在近紫外光(365nm- 400nm)范围内光吸收度很低,且整个光刻胶层所获得的曝光量均匀一致,可得到具有垂直侧壁和高深宽比的厚膜图形;它还具有良好的力学性能、抗化学腐蚀性和热稳定性。SU- 8 在受到紫外辐射后发生交联,是一种化学扩大负性胶,可以形成台阶等结构复杂的图形;且 SU- 8 胶不导电,在电镀时可以直接作为绝缘体使用。由于具有较多优点,SU- 8 胶正被逐渐应用于 MEMS、芯片封装和微加工等领域。目前,直接采用 SU- 8 光刻胶来制备深宽比高的微结构与微零件已经成为微加工领域的一项新技术。


    SU 8光刻胶光刻前清洗工艺:

    为了获得更好的光刻效果,在进行光刻胶旋涂之前,需要对基材进行清洗。常用的清洗方法是利用浓硫酸及双氧水的混合溶液浸泡,随后用去离子水清洗并用氮气吹干。除此之外还可以利用反应离子刻蚀或等离子表面清洗仪清洗。


    SU 8光刻胶光刻工艺:

    将 SU- 8 光刻胶组分旋涂在基材上,旋涂厚度几至几百微米。涂覆晶片经过前烘并冷却至室温。在烘干过程中,优先选择加热均匀且温度控制精确的加热板;不能使用鼓风干燥箱,防止因为光刻胶表面优先固化从而阻止内层光刻胶溶剂的挥发。冷却后,将负光掩模与涂覆晶片接触并在汞灯的紫外辐射剂量10-250mJ/㎝²条件下进行曝光。曝光结束后,选择合适的烘烤温度及时间。将晶片在显影液中浸渍显影,随后用氮气吹干。

    SU-8光刻胶的优点:

    1、SU-8光刻胶在近紫外光(365nm- 400nm)范围内光吸收度很低,且整个光刻胶层所获得的曝光量均匀一致,可得到具有垂直侧壁和高深宽比的厚膜图形;

    2、SU-8光刻胶具有良好的力学性能、抗化学腐蚀性和热稳定性;

    3、SU-8在受到紫外辐射后发生交联,是一种化学扩大负性胶,可以形成台阶等结构复杂的图形;

    4、SU-8胶不导电,在电镀时可以直接作为绝缘体使用。

    由于具有较多优点,SU-8 胶正被逐渐应用于 MEMS、芯片封装和微加工等领域。目前,直接采用 SU8光刻胶来制备深宽比高的微结构与微零件已经成为微加工领域的一项新技术。在微流控芯片加工中,SU-8主要用于快速模塑法加工PDMS微流控芯片


    光刻胶型号及参数

    光刻胶名称

    型号

    匀胶厚度

    规格

    Merck AZ 正/负可转换型光刻胶

    AZ 5214

    0.5-6μm

    100ml;500ml;1L;1加仑

    AZ 50XT 正胶

    AZ 50XT

    40-80μm

    100ml;500ml;1夸脱

    AZ 9260 正胶

    AZ 9260

    6.2-15μm

    100ml;250ml;500ml;1L;1加仑

    AZ2020正胶

    AZ nl0F2020

    >4μm

    1加仑

    AZ1500正胶

    AZ 1500(4.4cp/20cp/38cp)

    None   

    1加仑

    AZ9620/AZ4330正胶

    AZ 9620/AZ 4330

    None  

    1加仑

    MerckAZ1518正胶

    AZ 1518

    1-4.3μm

    1加仑

    AZ 4620 正胶

    AZ 4620

    10-15μm

    100ml;500ml;1L;

    MicroChem SU-8 负胶

    SU-8 2000.5

    0.5-0.8μm

    100ml;500ml;1L;1加仑

    MicroChem SU-8 负胶

    SU-8 2002

    2-2.9μm

    100ml;250ml;500ml;1L

    MicroChem SU-8 负胶

    SU-8 2005

    5-8μm

    100ml;250ml;500ml;1L

    MicroChem SU-8 负胶

    SU-8 2007

    7-13μm

    100ml;250ml;500ml;1L

    MicroChem SU-8 负胶

    SU-8 2010

    10-20μm

    100ml;250ml;500ml;1L

    MicroChem SU-8 负胶

    SU-8 2015

    13-38μm

    100ml;250ml;500ml;1L

    MicroChem SU-8 负胶

    SU-8 2025

    20-80μm

    100ml;250ml;500ml;1L

    MicroChem SU-8 负胶

    SU-8 2035

    35-120μm

    100ml;250ml;500ml;1L

    MicroChem SU-8 负胶

    SU-8 2050

    40-170μm

    100ml;250ml;500ml;1L

    MicroChem SU-8 负胶

    SU-8 2075

    60-240μm

    100ml;250ml;500ml;1L

    MicroChem SU-8 负胶

    SU-8 2100

    100-260μm

    100ml;250ml;500ml;1L

    MicroChem SU-8 负胶

    SU-8 2150

    190-650μm

    100ml;250ml;500ml;1L

    MicroChem SU-8 负胶

    SU-8 3005

    5-10μm

    100ml;250ml;500ml;1L

    MicroChem SU-8 负胶

    SU-8 3010

    8-15μm

    100ml;250ml;500ml;1L

    MicroChem SU-8 负胶

    SU-8 3025

    22-60μm

    100ml;250ml;500ml;1L

    MicroChem SU-8 负胶

    SU-8 3035

    32-80μm

    100ml;250ml;500ml;1L

    MicroChem SU-8 负胶

    SU-8 3050

    44-100μm

    100ml;250ml;500ml;1L



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    标签:   光刻胶 光刻工艺 SU 8