- SU-8光刻胶模具会用到模具，尤其是在PDMS芯片加工的过程中。PDMS芯片加工通常采用软光刻技术来制作。为了执行PDMS软光刻技术的加工过程，通常需要用到模板，最常...2025-06-15 20:54:58
- 光刻加工光刻技术图形转移工艺光刻工艺（Photoetching or Lithography）是一种图像复印技术，利用光刻胶感光后特性发生改变的原理，将光刻掩...2025-06-15 20:54:58
- Microchem SU-8光刻胶 2000系列SU 8光刻胶系列产品简介新型的化学增幅型负像 SU- 8 胶是一种负性、环氧树脂型、近紫外线光刻胶，克服了普通光刻胶采用 UV光刻导致的深宽比不足的问题，...2024-03-28 10:07:48
- 光刻工艺中的显影技术一、光刻工艺概述光刻工艺是半导体制造的核心技术，通过光刻胶在特殊波长光线或者电子束下发生化学变化，再经过曝光、显影、刻蚀等工艺过程，将设计在掩膜上的图形...2025-06-09 09:41:00
- 光刻胶产业国内发展现状如果说最终制造出来的芯片是一道美食，那么光刻胶就是最初的重要原材料之一，而且是那种看起来可能不起眼，但却能决定一道菜味道的关键辅料。光刻胶（photoresist），在业内又被称为光阻或光...2025-06-04 09:07:49
- 光刻掩膜版的储存条件光刻掩膜版（Photomask）是光刻工艺中至关重要的工具，它直接影响到最终图形的精确度和质量。虽然直接关于光刻掩膜版的储存条件的信息较少，但我们可以...2025-04-28 10:01:32
- 铬板掩膜和光刻掩膜的区别掩膜版作为微纳加工技术中光刻工艺所使用的图形母版，在IC、平版显示器、印刷电路版、微机电系统等领域具有广泛的应用。随着信息技术和智能制造的快速发展，特别是智能手机、平板电脑...2025-02-19 09:29:54
- 正性光刻对掩膜版有哪些要求正性光刻对掩膜版的要求主要包括以下几个方面：基板材料：掩膜版的基板材料需要具有良好的透光性、稳定性以及表面平整度。石英是常用的基板材料，因为它具有较低的...2025-02-17 09:46:14
- 晶圆表面光刻胶的涂覆与刮边工艺的研究随着半导体器件的应用范围越来越广，晶圆制造技术也得到了快速发展。其中，光刻技术在晶圆制造过程中的地位尤为重要。光刻胶是光刻工艺中必不可少的材料，其质量直接影响到晶圆生产的效率和质量。本文将围绕着晶圆表面光刻胶的涂覆与刮...2025-01-03 09:43:30
- 正性光刻对掩膜版的要求在正性光刻过程中，掩膜版（Photomask）作为图形转移的关键工具，其性能直接影响到最终图形的精确度和质量。以下是正性光刻对掩膜版的主要要求：图案准确性...2024-12-20 09:48:27
