- 新型显微镜在美问世ds and Technology，NIST)的研究人员建立了一套采用锂离子源的低能聚焦离子束显微镜。
...2014-05-12 09:55:12
- 基于微流控技术实现严格厌氧条件下的细菌单细胞培养与实时观测（上）1)单细胞生长通道的制作 a. 准备 76.2 mm 的硅片，用低强度等离子处理 30 min。 b. 从冰箱中取出 SU-8 2002 光刻胶和 ...2024-04-22 10:01:06
- 基于非牛顿微液滴的粒子封装及检测（上）in的速率混合1 ~ 2 d; 甘油-水混合液直接按照配比质量分数加入去离子水, 充分摇混即可. 所有配置溶液静置6 h以上再进行后续实验.含粒子的...2024-04-08 11:01:20
- 微流控芯片技术在药物分析领域的研究进展上注射液分析方向，微流控芯片非接触电导检测法发挥了通用性强、适合检测溶液中离子的优势。肖羽等采用微流控芯片非接触电导法分别测定了左卡尼汀注射液与门冬氨...2024-03-28 10:54:46
- AZ 5214E 光刻胶进式曝光机/接触式曝光机反转烘烤：110~125℃ 90秒（DHP）：去离子水30秒全面曝光：310~405nm(在曝光光源下全面照射)显影：AZ3...2024-03-28 10:29:49
- AZ P4620 光刻胶影液 (2.38%) 23℃ 60~300秒 Puddle 清洗：去离子水30秒后烘：120℃ 60秒以上 剥离：AZ剥离液及/或氧等离子体灰化...2024-03-28 10:29:14
- 光刻胶基材进行清洗。常用的清洗方法是利用浓硫酸及双氧水的混合溶液浸泡，随后用去离子水清洗并用氮气吹干。除此之外还可以利用反应离子刻蚀或等离子表面清洗仪清洗...2024-03-28 10:18:53
- 进口 Microchem SU-8 光刻胶 2000系列 100-150基材进行清洗。常用的清洗方法是利用浓硫酸及双氧水的混合溶液浸泡，随后用去离子水清洗并用氮气吹干。除此之外还可以利用反应离子刻蚀或等离子表面清洗仪清洗...2024-03-28 10:12:32
- Microchem SU 8光刻胶 2000系列 25-75基材进行清洗。常用的清洗方法是利用浓硫酸及双氧水的混合溶液浸泡，随后用去离子水清洗并用氮气吹干。除此之外还可以利用反应离子刻蚀或等离子表面清洗仪清洗...2024-03-28 10:11:49
- Mirochem SU-8光刻胶 3000系列基材进行清洗。常用的清洗方法是利用浓硫酸及双氧水的混合溶液浸泡，随后用去离子水清洗并用氮气吹干。除此之外还可以利用反应离子刻蚀或等离子表面清洗仪清洗...2024-03-28 10:10:32
