- WH-XQY-01 自动喷淋显影清洗一体机作过程中的手动显影与清洗环节，克服了手动显影过程中的显影液加入量不可控、硅片显影时间不可控、同规格硅片间隔显影效果不可控等缺点，最大程度上减少操作人...2022-10-28 15:53:17
- 涂胶显影设备的前景动喷淋显影清洗一体机半导体生产中有前道工艺和后道工艺， 前道工艺指的是从硅片加工开始直到在硅片上制成集成电路结束的工艺流程。涂胶显影设备作为集成电路...2022-10-17 08:27:13
- 等离子清洗机在PDMS微流控芯片键合中的作用脂. 等离子清洗机能对各种几何形状、表面粗糙程度各异的金属、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等物件表面进行超清洗和改性。 等离子清洗机是一款超清洗设备, 采用...2022-10-14 08:13:26
- WH-PXY-01 喷淋式显影机针对光刻工艺中的显影过程而设计开发的，可以对7英寸以下（含7英寸）规格的硅片进行程控式自动化显影。该设备可完全替代微流控芯片制作过程中的手动显影环节...2022-10-10 11:02:16
- WH-DJ-01 点胶机义压力，时间、速度以及点胶的位置。可以与各类点胶载台配合使用，如匀胶机、硅片载台、载玻片等。点胶机进料管采用耐腐蚀的黑色软管，避免因外界光源使管道内...2022-10-10 10:00:23
- 光刻胶的特性及工艺流程度太高会影响分辨率。 通常负胶的灵敏度高于正胶(2) 分辨率 区别硅片表面相邻图形特征的能力。一般用关键尺寸来衡量分辨率。形成的关键尺寸越小，...2022-09-23 08:42:39
- 光刻胶的主要成分和技术参数情况下，光刻胶是带有芳香味的具有一定黏度及颜色的液体。光刻胶以液态涂覆在硅片表面上，曝光后烘烤成固态。光刻胶的作用是将光刻板上的图形转移到硅片表面的...2022-09-19 08:34:41
- PDMS氧等离子键合的原理是什么？多样。在制作硅-PDMS多层结构微阀的过程中，将PDMS直接旋涂、固化在硅片上，实现硅-PDMS薄膜直接键合，这种方法属于可逆键合，键合强度不高。在...2022-09-15 08:39:07
- 热压键合设备发展现状精度在±1%以内。该设备主要用于晶圆键合和玻璃芯片的热压键合，同时可用于硅片和玻璃的共阳极键合，由于其优异的温度和压力控制能力，而且能够提供真空环境...2022-07-29 14:47:26
- 微流控芯片是如何制备的？ 录重量，然后将胶杯置于混胶机中，设置好对应重量，混合均匀后备用。 （3）硅片预处理：将芯片置于修饰剂 TMSCI 蒸汽环境中 5 min，避免后续...2022-07-22 14:33:47
