- 一种高感度深紫外正性化学增幅型抗蚀剂的制备剂膜层。采用ＡＳＭＬＳｃａｎｎｅｒＰＡＳ５５００／８００型ＫｒＦ激光步进曝光机进行曝光成像实验，曝光后，分别在８０和１００℃后烘６０ｓ，室温下用２?３...2018-08-15 11:10:22
- 一种可以正负互用的水型化学增幅抗蚀剂的研究公司产品(Cy303),由红狮涂料厂提供1. 2仪器设备旋转涂布台;紫外曝光机,光源为200W高压紫外灯;显微照相,采用OLYMPUSBH型显微照相机...2018-08-09 08:56:21
- 光刻技术图形转移工艺二：光刻材料及设备刻的质量。因此要有高的成品率，就必须制作出高质的光刻掩膜版。3.曝光系统曝光机 将光刻掩膜版与涂上光刻胶的晶圆片对准，用一定波长的紫外光经过光刻掩膜版...2018-06-07 08:41:19
- 汶颢股份：硅片模具制作流程有前烘过程，且过程一样；阴胶还有后烘过程（同前烘），阳胶没有；1. 打开曝光机；放置硅片于曝光机硅片托盘上（调整于中央，靠紧里面）；2. 打开真空泵，...2018-05-21 09:29:59
- TSP Sheet Exposure System触摸屏用Sheet曝光机是触摸屏及LCD制造技术所需要的大面积曝光系统，是可实现微细线宽和高生产率的产品。Sheet曝光机产品的优秀性不仅能让客户的Needs得到满足，...2017-10-30 17:25:31
- 中国大陆将迎来首台EUV光刻机机，而荷兰的ASML则拥有全球晶圆厂光刻机设备高达8成的市场份额，在干式曝光机、浸润式光刻机，EUV(极紫外线光刻机)的市场几乎处于独霸地位，台积电、...2017-10-25 09:28:40
- 光刻技术的基本原理什么是光刻机：光刻机又叫掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂...2016-10-10 10:13:26
- 光刻胶显影和光刻工艺 and Exposure）对准曝光阶段是光刻工艺的重要阶段，使用的掩膜曝光机，即光刻机，集中了光刻工艺中最重要的工艺技术。对准曝光过程通常在黄光实验...2016-08-26 09:51:03
- 微流控芯片制作与修饰用激光直接在聚合物或玻璃上加热形成微结构所需仪器设备光刻机:光刻机/紫外曝光机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等...2016-05-27 13:53:09
- 微流控芯片单层模具加工工艺1~2min。四、硅片曝光根据光刻胶性能确定前烘时间，进行前烘处理；根据曝光机功率及光刻胶所需曝光计量设定曝光时间，进行曝光；曝光后，取出模板放置烘胶...2016-04-29 14:44:58
