- 正负性光刻胶分类供AZ 光刻胶（正胶）系列和SU-8光刻胶（负胶）系列，另外相关去胶液、显影液有售。原装进口，品质保证！0512-62525802 来电咨询光刻胶价格...2017-08-22 13:05:14
- 生物芯片与微流控技术学曝光、接触式和接近式复印曝光、光学投影成像曝光。 ⑤显影。用光胶配套显影液通过化学方法除去经曝光的光胶（正光胶）或未经曝光的光胶（负光胶），显影液...2017-08-22 11:04:10
- 光刻胶基础知识分。汶颢微流控技术公司提供AZ 光刻胶和SU 8光刻胶以及光刻胶去胶液和显影液等芯片实验室周边耗材及配件。欢迎来电咨询光刻胶价格。...2017-08-21 10:09:09
- 新型多触发极紫外光刻胶材料于聚合物的使用。其他影响LER值的因素有散射噪声、PAG位置、酸扩散以及显影液的选择。几乎没有商用材料可以保证LWR在3nm以下，所以更高灵敏度的光刻...2017-08-17 11:54:14
- 微流控芯片加工技术介绍,用紫外光照射涂有光刻胶的基片,光刻胶发生光化学反应;(e)用光刻胶配套显影液通过显影的化学方法除去经曝光的光刻胶。这样，可用制版的方法将底片上的二维...2017-08-15 12:32:28
- 光刻胶（Photo Resist）知识大全光刻胶的定义及主要作用光刻胶是一种有机化合物，它受紫外光曝光后，在显影液中的溶解度会发生变化。一般光刻胶以液态涂覆在硅片表面上，曝光后烘烤成固态。 光刻胶的作用： 1、将掩膜板上的图形转移到硅片表面的氧化层中；...2017-08-10 14:58:20
- 新途径！无需光刻胶，多种纳米材料通过光刻形成图案路图案的掩膜版照射到硅基片上，引起曝光区域的光刻胶发生化学反应；然后再用显影液溶解未感光的光刻胶，从而使得掩膜版上的图案被复制到光刻胶薄膜上；最后，再...2017-08-03 16:41:44
- 生产光刻胶及使用光刻胶需注意的事项以，光刻胶的生产商一定要足够小心以防爆炸。目前用于负型光刻胶的有机溶剂和显影液对环境具有危害性，以致人们倾向于使用正型光刻胶。并且，其发展趋势是替换掉...2016-12-09 09:51:02
- 光刻胶发展历程光刻胶又称为光致抗蚀剂，它是一种对光敏感的有机化合物，受紫外光曝光后，在显影液中的溶解度会发生变化。其两大作用为：1、将掩膜版上的图形转移到晶圆表面顶...2016-12-07 14:25:53
- 微流控芯片加工过程中用到的仪器设备机：将图形转移光刻胶上的过程，也就是将微结构临时“复制”到硅片上的过程。显影液：将曝光后的图形显示出来去胶液：去除表面多余的光刻胶真空干燥箱：PDMS...2016-12-05 14:58:36
