- 如何选购合适的匀胶机？涂覆仪、旋转涂膜仪、匀膜机，总的来说，他们原理都是一样的，既在高速旋转的基片上，滴注各类胶液，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上，厚度视...2017-08-21 10:20:09
- 微流控芯片加工技术介绍工艺光刻是用光刻胶、掩模和紫外光进行微制造 ,工艺如下 :(a)仔细地将基片洗净;(b)在干净的基片表面镀上一层阻挡层 ,例如铬、二氧化硅、氮化硅等...2017-08-15 12:32:28
- 新途径！无需光刻胶，多种纳米材料通过光刻形成图案 其大概过程如下：首先，让紫外线通过印着芯片复杂电路图案的掩膜版照射到硅基片上，引起曝光区域的光刻胶发生化学反应；然后再用显影液溶解未感光的光刻胶，...2017-08-03 16:41:44
- 基于玻璃基材的微流控芯片加工工艺介绍质的微流控芯片通常采用的键合工艺包括热键合、低温键合、阳极键合等，来实现基片与盖片的封装。热键合就是将要键合的玻璃片直接面对面的接合，再将接合的玻璃...2017-07-19 14:27:54
- 基于微流控技术的金属柔性电子材料制备新工艺s，简称ΛTAS)的研究重点之一，它是利用微细加工技术,在玻璃及高分子等基片上制作以管道网络为主的微型结构，通过对微流体的控制,实现对生化样品集成处...2017-03-31 08:55:57
- 光刻机的曝光模式据施加力量的方式不同又分为：软接触，硬接触和真空接触。1.软接触 就是把基片通过托盘吸附住（类似于匀胶机的基片放置方式），掩膜盖在基片上面；2.硬接...2016-12-08 14:34:46
- 微流控芯片加工过程中用到的仪器设备部 分，得到所需图像。匀胶机：用于光刻工艺前的光刻胶旋涂。即在高速旋转的基片上，滴注光刻胶，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上，厚度视不...2016-12-05 14:58:36
- 光刻胶的应用简介以及我国光刻胶的发展现状是用光胶、掩模和紫外光进行微制造，它的工艺成熟，已广泛用于硅、玻璃和石英基片上制作微结构。 我国光刻胶行业发展现状2016全球光刻胶市场规模及结构（...2016-11-29 16:48:28
- 微流控芯片在生命科学领域的应用及发展前景结构是比较简单的，就是在几十个平方厘米的基板上加工出微通道，然后将盖片和基片键合到一起，以形成封闭的微流体通道。由于微型化、集成化的微流控芯片具有高...2016-11-17 13:11:54
- 普通实验室PDMS芯片的简易加工技术后取出，在30s内将其贴合，注意对准通道及进样口与出样口；3、将PDMS基片与盖片贴合好后放入80℃烘箱1h;PDMS作为一种高分子有机硅化合物，具...2016-11-10 10:30:53
