- 微流控芯片流体的控制与驱动电级，微检测原件和连接器等功能元件像集成电路一样，使它们集成在芯片材料（基片如：PDMS、PMMA、硅、纸、玻璃等）上的微全分析系统。面积一般约为几...2017-10-09 17:48:39
- 微流控芯片及技术介绍器件。但是硅材料也有本身的缺点，例如绝缘性和透光性较差、深度刻蚀困难、硅基片的粘合成功率低等，这些影响了硅的应用。如今，玻璃己被广泛用于制作微流控芯...2017-10-09 17:39:32
- SU-8光刻胶光刻工艺行清洗，并在200℃烘30分钟以上以去除表面水分子2) 用厚胶甩胶工艺在基片表面旋涂所需要厚度的SU-8光刻胶3) 利用热板对SU-8光刻胶进行前烘...2017-10-09 17:36:09
- 微流控芯片分选临床样品中循环肿瘤细胞的研究进展硅氧烷(polydimethylsiloxane, PDMS)黏合在玻璃基片上, 在芯片的进样口连接一个注射泵即可。使用该芯片在60例肺癌患者血样中...2017-10-09 17:28:24
- PDMS芯片加工及其表面亲水性和疏水性改性处理键合附,从而提高分析物的分离效率。2.PDMS芯片键合：在具微凹道的PDMS基片上进行聚丙烯酸共价修饰，形成疏水图案。建立PDMS的光催化化学修饰技术，...2017-10-09 16:31:41
- SU-8 光刻胶及光刻工艺非常敏感, 且固化厚的光刻胶难以彻底的清除。这些工艺参 数包括衬底类型、基片预处理、前烘温度和时间、 曝光时间、中烘温度和时间、显影方式和时间等。 ...2017-08-31 11:32:06
- 匀胶机使用注意事项及维护清洗涂覆仪、旋转涂膜仪、匀膜机，总的来说，他们原理都是一样的，即在高速旋转的基片上，滴注各类胶液，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上，厚度视...2017-08-30 17:08:18
- 集成微流控芯片的材料. 这些材料的加工工艺比较成熟, 通过光刻等图案化 手段可以使玻璃基片的特定图案暴露而其余部分被 光刻胶或者金属镀层所保护, 再利用氢氟酸或其...2017-08-29 10:02:02
- 匀胶机旋涂仪小知识光刻工艺中。许多平面基底材料都可以用来涂覆如：半导体硅片，载玻片，晶片，基片，ITO导电玻璃等等。 通过在片托上产生负压，将需要旋涂的基底材料吸附...2017-08-25 08:48:47
- 生物芯片与微流控技术性和多样性需求，微流控芯片技术的发展趋于组合化和集成化，经常需在一块芯片基片上集成多种功能单元，如化学反应器、生物反应器、过滤装置等以进行多种样品的...2017-08-22 11:04:10
