- 软光刻技术：SU-8涂层上提供良好的结果。另外，由于在纺丝过程中大部分光致抗蚀剂（> 95％）从基材上被抛出，所以旋涂会产生大量的废料。对于喷涂而言，由于光致抗蚀剂液滴应该...2018-03-16 09:26:49
- SU-8光刻胶产品性能及光刻工艺介绍领域的一项新技术。 SU-8光刻胶的光刻工艺 将SU-8光刻胶组分旋涂在基材上，施涂厚度几至几百微米。涂覆晶片随后在95摄氏度下干燥20分钟并随后冷...2018-03-09 08:47:59
- 聚二甲基硅氧烷（PDMS）综述，氧化物沉积或表面功能化。在交联过程中，PDMS可以使用简单的旋涂涂布在基材上的受控厚度。这允许制造多层器件并集成微型阀。可变形的，它允许使用PDM...2018-03-05 14:15:31
- 2018年最新可供制造微流控芯片材料介绍璃是首先用于微流体应用的原始材料，但随着时间的推移和新技术的进步，聚合物基材，复合材料或纸张等新材料被用作微流体芯片的材料。为了研究目的，所使用的材...2018-03-02 13:00:30
- 微流控技术的原理、制备以及应用和微流控芯片的成功应用非常重要。（1） 硅材料单晶硅是最先尝试使用的芯片基材。硅及二氧化硅具有良好的化学惰性和热稳定性，而且硅的微细加工技术已趋成熟...2018-02-24 09:04:10
- 为实现大面积化、低成本而开发的新型光催化板式反应器（在1mm水深的反应器里实现水分解）但是具有可以仅用一种光催化剂进行水分解的优良特性。 因此，可以通过涂布在基材上来简单地实现光催化板的功能。通过测量紫外光照射到反应器时产生的氢气和氧...2018-02-01 09:35:40
- 光刻胶成分及用途说法，因为光刻胶从外观上呈现为胶状液体。光刻胶通常是以薄膜形式均匀覆盖于基材表面。当紫外光或电子束的照射时，光刻胶材料本身的特性会发生改变，经过显影...2017-10-31 17:26:19
- 等离子清洗机工作原理形成气相；反应残余物脱离表面。等离子体清洗技术的最大特点是不分处理对象的基材类型，均可进行处理，对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料，如聚丙烯、...2017-10-31 11:20:01
- 微流控芯片加工常用仪器设备、耗材及配件通风橱、纯水机、超声清洗机、氮气枪。二、微流控芯片加工耗材1、微流控芯片基材系列：硅片、玻璃片、PMMA板、PC板、COC板。 2、微流控芯片光刻胶...2017-10-10 08:48:08
- 纸基微流控检测芯片用于食药纸包装侧的蜡经过加热渗透浸润到了纸张的外侧，即浸透了整个纸张的厚度，完整地在纸基材料中围绕形成了流体流动的微通道。流体的流动借助液体在纸纤维间的毛细作用自...2017-10-09 17:52:30
