- 微流控芯片的制作技术一、光刻和刻蚀技术传统的用于制作半导体及集成电路芯片的光刻和刻蚀技术，是微流控芯片加工工艺中最基础的。它是用光胶、掩膜和紫外光进行微细加工，工艺成熟，...2021-10-14 15:29:00
- HOT PLATE-100线性温控-烤胶机冲现象大幅度减小，并具备高精度的线性升温/冷却功能。 常和匀胶机配套使用，适用于半导体、制版及表面涂覆等工艺，可在工矿企业、科研、教育等...2020-04-08 16:43:02
- 光刻技术图形转移工艺二：光刻材料及设备后的晶圆片表面涂上一层增粘剂，使晶圆片和光刻胶之间的黏着力增强。2.涂胶匀胶机（甩胶机）对晶圆片进行底膜处理后，便可以进行涂胶，即在晶圆片上涂上一层粘...2018-06-07 08:41:19
- 汶颢股份：硅片模具制作流程机器操作不同，供参考）9. 打开压缩机，打开真空泵；10. 将硅片放置于匀胶机正中，平衡好；铺AZ-50（阴胶SU-8），浓度越高，厚度越大，铺好后静...2018-05-21 09:29:59
- 一文看懂光刻机半导体芯片生产主要分为 IC 设计、 IC 制造、 IC 封测三大环节。 IC 设计主要根据芯片的设计目的进行逻辑设计和规则制定，并根据设计图制作掩模...2018-05-16 08:59:54
- 汶颢股份：2018年世界生化、分析仪器与实验室装备中国展南京国际展览中心拉开帷幕。汶颢股份携手汶颢“智”造微反应器、微流控芯片、匀胶机、烘胶台、离心进样仪、注射泵等产品参会。汶颢股份产品吸引了诸多国内外客户...2018-04-17 10:27:41
- SU-8光刻：旋涂机如何选择正确的旋涂机（匀胶机）用于SU-8微流控模具的光刻技术？旋涂机（匀胶机）用于微流控模具的光刻，以 在基底上涂覆光致抗蚀剂层（例如SU-8）。它们适用于各种光刻胶，因...2018-04-03 10:57:43
- 软光刻技术：SU-8涂层Tips:汶颢提供微流控芯片模具及软光刻相关设备，如匀胶机（又叫旋涂机等）、烘胶台、SU-8系列光刻胶及显影液产品和相关技术输出服务。在软光刻技术中，通常用SU-8模具复制PDMS微流体结构芯片。为了制...2018-03-16 09:26:49
- 液滴微流控芯片系统中微液滴特性表征及氨基酸检购自美国MicroChem公司；等离子清洗机购自美国Harrick公司；匀胶机购自中国科学院微电子研究所；加热台购自谊华电子设备有限公司；紫外光刻机购...2018-01-17 09:29:56
- 光刻工艺所需药品及设备与操作步骤刻胶（正胶）、显影液：5‰ 氢氧化钠溶液、甲醇、蒸馏水、丙酮。实验仪器：匀胶机、烘胶台、光刻机、真空泵、气泵。二.光刻工艺实验步骤 1.清洁硅片：去离...2017-12-21 08:48:35
