- 微流控芯片的制作技术一、光刻和刻蚀技术传统的用于制作半导体及集成电路芯片的光刻和刻蚀技术，是微流控芯片加工工艺中最基础的。它是用光胶、掩膜和紫外光进行微细加工，工艺成熟，...2021-10-14 15:29:00
- HOT PLATE-100线性温控-烤胶机冲现象大幅度减小，并具备高精度的线性升温/冷却功能。 常和匀胶机配套使用，适用于半导体、制版及表面涂覆等工艺，可在工矿企业、科研、教育...2020-04-08 16:43:02
- 基于尼龙微孔薄膜的微流控芯片的制作及对葡萄糖的显色响应on,聚己二酸己二胺,孔径0-45滋m)的厚度均为100滋m。SC-B型匀胶台；GP18正型紫外光刻胶；URE-2000/35型深紫外光刻机;CT-...2018-08-03 09:43:34
- 光刻工艺的成本Cf+Cc+CrQrwNc)/Ng+Cm/Nwm式中，Ce是每年光刻机、匀胶显影机的成本（包括折旧费、设备维护费和安装调试费用）；Cl是每年光刻技术...2018-07-25 08:40:00
- 现代光刻工艺研发各部分的职责和协作职责设备应用equipment applications1.负责光刻机和匀胶显影机的性能监控。发现问题及时停机，并协调设备供应商解决2.建立光刻机工...2018-07-12 09:55:41
- 光刻技术图形转移工艺二：光刻材料及设备后的晶圆片表面涂上一层增粘剂，使晶圆片和光刻胶之间的黏着力增强。2.涂胶匀胶机（甩胶机）对晶圆片进行底膜处理后，便可以进行涂胶，即在晶圆片上涂上一层...2018-06-07 08:41:19
- 汶颢股份：硅片模具制作流程机器操作不同，供参考）9. 打开压缩机，打开真空泵；10. 将硅片放置于匀胶机正中，平衡好；铺AZ-50（阴胶SU-8），浓度越高，厚度越大，铺好后...2018-05-21 09:29:59
- 一文看懂光刻机半导体芯片生产主要分为 IC 设计、 IC 制造、 IC 封测三大环节。 IC 设计主要根据芯片的设计目的进行逻辑设计和规则制定，并根据设计图制作掩模...2018-05-16 08:59:54
- PDMS薄膜：旋涂PDMS层的厚度一层薄的PDMS被称为PDMS膜。PDMS膜具有多种性质，使其非常有价值。事实上，由于PDMS的渗透性，膜可用于在两种液体之间或气体与液体之间交换气体...2018-04-23 14:41:33
- 汶颢股份：2018年世界生化、分析仪器与实验室装备中国展南京国际展览中心拉开帷幕。汶颢股份携手汶颢“智”造微反应器、微流控芯片、匀胶机、烘胶台、离心进样仪、注射泵等产品参会。汶颢股份产品吸引了诸多国内外客...2018-04-17 10:27:41
