- 光刻胶显影和光刻工艺中浸泡然后取出。对于大部分对显影要求较高的生产及实验过程，通常使用专用的匀胶显影机来自动控制显影过程，如图 3 所示。 图 3 匀胶显影机 目前，...2016-08-26 09:51:03
- 微流控芯片制作与修饰thography（光刻） 意思是用光来制作一个图形（工艺）；在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅...2016-05-27 13:53:09
- 微流控芯片单层模具加工工艺胶将光刻胶倒在处理后的硅片上（注意避免气泡存在）。按照预定图形高度，设定匀胶机转速。匀胶后静置1~2min。四、硅片曝光根据光刻胶性能确定前烘时间，...2016-04-29 14:44:58
- 微流控PDMS芯片加工工艺开天平称胶。A胶：B胶=10:1。A胶与B胶的比越大配出来的胶越软。二、匀胶打开真空脱泡搅拌机，放入称好的胶，抽真空将胶搅拌混合。三、修饰将处理好的...2016-04-26 16:45:13
- 光刻机的简单介绍thography（光刻） 意思是用光来制作一个图形（工艺）；在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅...2016-04-18 11:54:16
- 光刻机的“曝光模式”分类触。
1.软接触 就是把基片通过托盘吸附住（类似于匀胶机的基片放置方式），掩膜盖在基片上面；
2.硬接触...2015-02-13 15:49:15
- 光刻机的分类thography（光刻） 意思是用光来制作一个图形（工艺）；在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅...2015-02-13 15:17:06
