- 模塑法-微流控PDMS芯片制备模塑法PDMS芯片制备方法流程有：①匀胶前烘 ②曝光 ③启动化学放大反应 ④后烘 ⑤显影+坚模 ⑥固化 ⑦剥胶 ⑧键合模塑法-微流控PDMS芯片制备流程图如下： 汶颢股份提供所有...2017-10-26 17:30:29
- 光刻基本操作步骤，退回上步工序。确定无误后，按照随工单上的要求制作。二、光刻的主要步骤：匀胶、前烘、曝光、显影、显影后检查匀胶：目的：在硅片表面均匀涂上一层厚度一定...2017-10-25 09:31:42
- 微流控芯片加工常用仪器设备、耗材及配件一、微流控芯片加工设备1、PDMS芯片加工设备：匀胶机、烘胶台、光刻机、真空干燥箱、PDMS打孔机、PDMS切割机、WH-AM-01 微流控芯片对准平台、等离子清洗机。2、玻璃芯片加工设备：匀胶机...2017-10-10 08:48:08
- 基于电化学刻蚀与微电铸工艺用休斯紫外曝光 机，型号 MA/BA6SUSS MicroTec。经 过匀胶、静置、前烘、曝光、后烘和显 影 后 制 得 长 宽 为 15mm×0....2017-10-10 08:38:48
- 光刻胶模具加工工艺上经过负性光刻胶光刻到硅阳模。2.光刻胶模具使用的仪器及耗材仪器设备有：匀胶机、烘胶台、紫外光刻机、数显恒温电热板等。耗材有：单晶硅片、掩膜、光刻胶...2017-10-09 17:14:32
- 微纳加工- 玻璃芯片割打孔-高温键合。图为：刻蚀片图为：切割片微流控玻璃芯片加工使用仪器有：匀胶机、紫外光刻胶、恒温烘胶台、摇床等。微流控玻璃芯片加工使用到的试剂与耗材...2017-10-09 16:38:00
- Q&A：微流控芯片加工中遇到的一些常见问题洗，以免对芯片造成损伤。 Q：光刻胶匀过胶后为什么会出现褶皱？A：光刻胶匀胶后褶皱属于人为操作不当引起的非正常现象。主要原因由胶层不平，烘胶后受热不...2017-08-17 13:46:04
- Q&A：微流控芯片加工中遇到的一些常见问题冲洗，以免对芯片造成损伤。Q：光刻胶匀过胶后为什么会出现褶皱？A：光刻胶匀胶后褶皱属于人为操作不当引起的非正常现象。主要原因由胶层不平，烘胶后受热不...2017-03-17 14:26:10
- 汶颢微流控芯片辅助设备一览微流控芯片加工设备匀胶机旋涂程序：最多可存100组程序，每组100步，每个步骤可精确到0.1秒；转动速度：300-10,000rpm；工作台尺寸：Ф10—Ф120mm...2017-01-10 15:29:37
- PDMS微流控芯片的优点及制作方法开天平称胶。A胶：B胶=10:1。A胶与B胶的比越大配出来的胶越软。二、匀胶 ：打开真空脱泡搅拌机，放入称好的胶，抽真空将胶搅拌混合。三、修饰 ：将...2016-12-09 14:37:31
