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- AZ 9260 光刻胶AZ光刻胶刻蚀厚度从1μm到150μm以及更厚。高感光度,高产出率；高附着性,特别为湿法刻蚀工艺改进；广泛应用于全球半导体行业。光刻胶产品型号及参数光刻胶名称...2024-03-28 10:31:40
- AZ 50XT 光刻胶AZ光刻胶刻蚀厚度从1μm到150μm以及更厚。高感光度,高产出率；高附着性,特别为湿法刻蚀工艺改进；广泛应用于全球半导体行业。光刻胶产品型号及参数光刻胶名称...2024-03-28 10:30:59
- AZ 5214E 光刻胶AZ光刻胶刻蚀厚度从1μm到150μm以及更厚。AZ光刻胶特点：适用于高分辨率工艺（lift-off工艺）适用于正/负图形很宽的膜厚范围AZ光刻胶工艺条件：前...2024-03-28 10:29:49
- AZ P4620 光刻胶AZ光刻胶刻蚀厚度从1μm到150μm以及更厚。高感光度,高产出率；高附着性,特别为湿法刻蚀工艺改进；广泛应用于全球半导体行业。AZ光刻胶特点：高对比度，高感...2024-03-28 10:29:14
- 光刻胶混合溶液浸泡，随后用去离子水清洗并用氮气吹干。除此之外还可以利用反应离子刻蚀或等离子表面清洗仪清洗。SU-8光刻胶的光刻工艺将 SU- 8光刻胶组分...2024-03-28 10:18:53
- 进口 Microchem SU-8 光刻胶 2000系列 100-150混合溶液浸泡，随后用去离子水清洗并用氮气吹干。除此之外还可以利用反应离子刻蚀或等离子表面清洗仪清洗。Microchem SU 8光刻胶光刻工艺将 S...2024-03-28 10:12:32
- Microchem SU 8光刻胶 2000系列 25-75混合溶液浸泡，随后用去离子水清洗并用氮气吹干。除此之外还可以利用反应离子刻蚀或等离子表面清洗仪清洗。Microchem SU 8光刻胶光刻工艺将 S...2024-03-28 10:11:49
- Mirochem SU-8光刻胶 3000系列混合溶液浸泡，随后用去离子水清洗并用氮气吹干。除此之外还可以利用反应离子刻蚀或等离子表面清洗仪清洗。Microchem SU 8光刻胶光刻工艺将 S...2024-03-28 10:10:32
- 微流控科普 | 高性能微流控芯片重在选材容易粘灰尘。硅材料微流控芯片优点：化学惰性；加工精度高，成熟的硅片光刻和刻蚀工艺；阳极键合的稳定密封性；深宽比可达100。缺点：不透光；易碎；成本相...2024-03-26 09:40:22
