- 微流控纸芯片(纸基微流控芯片)制造方法综述通道流动，实现各种生化分析。而化学工艺主要是指通过光刻、紫外固化、等离子刻蚀等构造出流道，实现分析样品的流动控制。 本文对各种纸基微流控芯片的制造...2017-03-16 11:06:22
- 微流控芯片技术在生物分析中的应用，激光诱导荧光检测器检测。分析时间为70s。 （3）、在微流控芯片上刻蚀了容积为6.5m的反应器，填人固化乳酸氧化酶的多孔玻珠，形成酶反应器，测...2016-12-27 15:43:06
- 微流控芯片技术在环境领域的应用区域进行连续监测的情况下，仍需要快速、高效的检测工具。使用光刻法搭配湿法刻蚀技术，成功研制了一种微流控芯片，该芯片利用鲁米诺发光性质，成功地对硝酸钴...2016-12-19 15:58:40
- 生产光刻胶及使用光刻胶需注意的事项等。当光刻暴露在光源或者是紫外辐照源条件下时，其溶解度发生了变化：负型光刻蚀剂变为不溶，正型光刻胶变为可溶。大多数负型光刻蚀剂可以归为两种类型，一种...2016-12-09 09:51:02
- 光刻胶发展历程上的图形转移到晶圆表面顶层的光刻胶中；2、在后续工序中，保护下面的材料（刻蚀或离子注入）。国外光刻胶发展光刻胶按曝光波长不同可分为紫外光刻胶、深紫外...2016-12-07 14:25:53
- 微流控芯片加工过程中用到的仪器设备历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。光刻过程中涉及到的试剂以及设备如下：光刻胶： 又称光致抗蚀剂，由...2016-12-05 14:58:36
- 微反应器的发展及其制造类：一是由IC（集成电路）平面制作工艺延伸而来的硅体微加工技术：包括湿法刻蚀（各向同性刻蚀和各向异性刻蚀）、干法刻蚀（溅射刻蚀、等离子刻蚀）。二是超...2016-12-02 13:59:51
- 光刻胶的应用简介以及我国光刻胶的发展现状通道的制作，起源于制作半导体及集成电路芯片所广泛使用的光刻和蚀刻技术。光刻蚀是用光胶、掩模和紫外光进行微制造，它的工艺成熟，已广泛用于硅、玻璃和石英...2016-11-29 16:48:28
- SU-8光刻胶的光刻工艺混合溶液浸泡，随后用去离子水清洗并用氮气吹干。除此之外还可以利用反应离子刻蚀或等离子表面清洗仪清洗。SU-8光刻胶的光刻工艺 将SU-8光刻胶组分旋...2016-11-28 10:30:08
- 光刻胶的成份及其主要作用最常用的有AZ-1350系列。正胶的主要优点是分辨率高，缺点是灵敏度、耐刻蚀性和附着性等较差。 光刻胶的特点 1、在光的照射下溶解...2016-11-18 09:35:14
