- 28nm节点浸没式光刻机核心部件之一浸液系统入驻杭州青山湖科技城什么是光刻机？高端光刻机是集成电路配备中技能难度最高的关键设备，因此也被称为人类技能开展的制高点和制作工业“皇冠上的明珠”。国外品牌主要以荷兰ASML，日本...2017-08-08 16:38:10
- 中国科学院光电技术研究所研制出实用深紫外光刻机院光电技术研究所微电子专用设备研发团队研制成功波长254nm的实用深紫外光刻机（Mask aligner），光刻分辨力达到500nm。 光刻机因使用...2017-07-28 16:03:16
- 光刻机的曝光模式缺陷；上个世纪七十年代的工业水准，已经逐渐被接近式曝光方式所淘汰了，国产光刻机均为接触式曝光，国产光刻机的开发机构无法提供工艺要求更高的非接触式曝光的...2016-12-08 14:34:46
- 光刻机工作原理和组成光刻机通过一系列的光源能量、形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补偿各种光学误差，将线路图成比例缩小后映射到硅片上，不同光刻机的成像比例...2016-08-24 11:03:30
- 中国有了光刻机核心技术科技日报北京5月13日电 （记者林莉君）对于普通人来说，光刻机或许是一个陌生的名词，但它却是制造大规模集成电路的核心装备，每颗芯片诞生之初，都要经过光刻技术的锻造。记者13日从清华大学获悉，国家科技重大专项...2016-06-15 15:38:29
- 光刻机的简单介绍简介光刻机/紫外曝光机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignm...2016-04-18 11:54:16
- 光刻机的“曝光模式”分类缺陷；上个世纪七十年代的工业水准，已经逐渐被接近式曝光方式所淘汰了，国产光刻机均为接触式曝光，目前国产光刻机的开发机构无法提供工艺要求更高的非接触式曝...2015-02-13 15:49:15
- 光刻机的分类
光刻机/紫外曝光机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignm...2015-02-13 15:17:06
- 光刻机的主要性能指标有哪些
光刻机的主要性能指标有：
支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。
...2015-01-30 16:37:55
- 紫外光刻机的工作条件
紫外线光刻机是 印制板制造工艺中的重要设备。传统光刻机的玻璃-迈拉晒架在生产过程中需要人工赶气,迈拉膜需要经常更换。由于冷却系统过于臃肿,使得其生产成本高、...2015-01-30 16:02:14
