28nm节点浸没式光刻机核心部件之一浸液系统入驻杭州青山湖科技城

什么是光刻机？高端光刻机是集成电路配备中技能难度最高的关键设备，因此也被称为人类技能开展的制高点和制作工业“皇冠上的明珠”。国外品牌主要以荷兰ASML，日本Nikon和日本Canon三大品牌为主。我国是国际最大的芯片使用商场和进口商场，而光刻机是我国完成芯片工业自主化最大的短板，国家02科技重大专项旨在打破国外独占，打造具有自主知识产权的高端光刻机设备，关于我国芯片工业开展具有重大意义。

本次入驻的光刻机浸液体系项目拟在青山湖科技城核心区新增用地25亩，总投资5亿元。项目整体规划，一次建成，建造光刻机浸液体系产品研制与中试基地。与前期入驻的中电海康磁旋存储芯片项目毗连而建，在科技城构成关键设备制造、芯片研制出产两大集成电路工业项目龙头。

浸液体系背景：浸液体系是浸没式光刻机四大核心部件之一，是光刻机打破干式曝光物理极限向更小技能节点开展的标志性技能。现在，国际上仅荷兰ASML和日本Nikon拥有浸液体系技能，且严厉保密，因而，我国有必要自主研制。

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