- 多材料3D打印器官芯片的器官芯片的制备和数据收集过程相当昂贵和辛苦，需要使用一种复杂的多步骤光刻工艺在洁净室里制造，而数据收集往往需要显微镜或高速照相机。而哈佛大学开发的...2017-08-29 10:24:27
- 匀胶机旋涂仪小知识备厚度小于10 纳米薄膜。也常应用在约1-100 微米厚光刻胶沉积层的光刻工艺中。许多平面基底材料都可以用来涂覆如：半导体硅片，载玻片，晶片，基片，...2017-08-25 08:48:47
- 刻蚀工艺：干法刻蚀和湿法刻蚀胶(或有掩膜)的硅片上正确的复制出掩膜图形。 刻蚀，通常是在光刻工艺之后进行。我们通常通过刻蚀，在光刻工艺之后，将想要的图形留在硅片上。从...2017-08-23 16:26:42
- 光刻胶基础知识高的灵敏度。但灵敏度太高会影响分辨率。通常负胶的灵敏度高于正胶。分辨率光刻工艺中影响分辨率的因素有：光源、曝光方式和光刻胶本身（包括灵敏度、对比度、...2017-08-21 10:09:09
- 微流控芯片加工技术介绍光刻(lithography)和刻蚀技术(etching)3.1微流控光刻工艺光刻是用光刻胶、掩模和紫外光进行微制造 ,工艺如下 :(a)仔细地将基...2017-08-15 12:32:28
- 中国科学院光电技术研究所研制出实用深紫外光刻机式、接近式模式、数字设定曝光间隙等诸多功能供用户选择或定制，能满足不同光刻工艺需求。该光刻机设备自动化程度高、操作十分方便、外形美观。该型设备的成功...2017-07-28 16:03:16
- 在微流控平台上分离单细胞胞的物理（声、光、电、体积等）或生物学性质（抗原）实现分选。此外，使用光刻工艺制造出来的反应室可以达到很高的精度，消除了液滴式微流控系统中反应容器体...2017-02-22 09:55:29
- 光刻机的曝光模式能耐久使用；掩模寿命长（可提高10 倍以上），图形缺陷少。接近式在现代光刻工艺中应用最为广泛。c.投影式曝光（Projection Printing...2016-12-08 14:34:46
- 微流控芯片加工过程中用到的仪器设备一、光刻工艺所需设备一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。光刻过程中涉及到的试剂以及设备...2016-12-05 14:58:36
- 不同材质微流控芯片的加工工艺可逆结合（或不可逆）。PDMS芯片微结构尺寸取决于其注塑模具，普通紫外光刻工艺加工的尺寸最细可到2um，由于PDMS芯片材质的透气性、透光性和生物相...2016-12-05 10:43:18
