- 面对垄断，自主研发高端光刻机实现国产化替代势在必行光刻机是芯片制作的核心设备之一，依照用处可以分为好几种：有用于出产芯片的光刻机；有用于封装的光刻机；还有用于LED制作领域的投影光刻机。我国用于出产芯...2017-08-10 14:36:55
- 28nm节点浸没式光刻机核心部件之一浸液系统入驻杭州青山湖科技城什么是光刻机？高端光刻机是集成电路配备中技能难度最高的关键设备，因此也被称为人类技能开展的制高点和制作工业“皇冠上的明珠”。国外品牌主要以荷兰ASML，日...2017-08-08 16:38:10
- 微流控光刻仿生螺旋微型马达制造工艺往往比较复杂，而且难以量产。近日，东南大学赵远锦教授课题组将流体光刻技术集成于微流控螺旋纺织体系，开发了一种新型的连续制备仿生螺旋微马达的方...2017-08-07 08:41:09
- 新途径！无需光刻胶，多种纳米材料通过光刻形成图案是一个十分微小的开关，它又称为“晶体管”。然而，说起晶体管的制造，其中“光刻技术"起到了十分重要的作用。光刻技术的成熟度，直接决定了单位圆晶片上可以...2017-08-03 16:41:44
- 中国光刻胶行业分布分析一、光刻胶生产企业分布分析国内紫外固化材料发展有约20多年，目前仍处于成长期；普通UV涂料、UV油墨国内已经能生产并部分出口，且行业集中度较高，但高端产...2017-08-02 10:06:15
- 中国科学院光电技术研究所研制出实用深紫外光刻机院光电技术研究所微电子专用设备研发团队研制成功波长254nm的实用深紫外光刻机（Mask aligner），光刻分辨力达到500nm。 光刻机因使...2017-07-28 16:03:16
- 生产光刻胶及使用光刻胶需注意的事项光刻胶指光照后能具有抗蚀能力的高分子化合物，用于半导体基件表面产生电路的形状。其配方通常是一个复杂的体系，主要包括感光物质、树脂和一些其他利于使用的材...2016-12-09 09:51:02
- 光刻机的曝光模式a.接触式曝光（Contact Printing）：掩膜板直接与光刻胶层接触。曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率相当，设备简单。接触式，根据施加力量的方式不同又分为：软接触，硬接触和真空接触。1.软接触 就是把...2016-12-08 14:34:46
- 光刻胶发展历程光刻胶又称为光致抗蚀剂，它是一种对光敏感的有机化合物，受紫外光曝光后，在显影液中的溶解度会发生变化。其两大作用为：1、将掩膜版上的图形转移到晶圆表面顶...2016-12-07 14:25:53
- 光刻胶的应用简介以及我国光刻胶的发展现状光刻胶与光刻技术 光刻技术也是利用光的能量，通过控制光照的区域使具有化学活性的液体化学物质快速发生光化学反应，并通过实现选择性的腐蚀得到图形的技术。为...2016-11-29 16:48:28
