- 光刻蚀的基本工序微通道的制作，起源于制作半导体及集成电路芯片所广泛使用的光刻和蚀刻技术。光刻蚀是用光胶、掩模和紫外光进行微制造，它的工艺成熟，已广泛用于硅、玻璃和石英...2016-09-22 16:02:38
- 微流控芯片制备之微结构的形成|光刻法|模塑法|热压法|激光刻蚀法ymer pellets and thermal bonding.4．激光刻蚀法用激光直接在聚合物或玻璃上加热形成微结构...2016-07-14 10:15:30
- 芯片定制型微流控芯片的设计制作加工，及外设电器系统的开发。可咨询。加工技术手段激光刻蚀，数控加工，冲压，模具法等，还可以对芯片固定支架或固定壳提供3D打印的打...2024-04-27 02:55:31
- 微流控分析芯片的材料及特性应容易被加工不同的加工方法对聚合物材料的可加工性有不同的要求，例如：用激光刻蚀加工芯片时，聚合物材料应能吸收激光辐射，并在激光照射下降解成气体，热压法...2024-04-03 11:00:17
- 玻璃微通道加工特点玻璃），高硼硅玻璃（康宁、肖特）和石英玻璃。微通道加工方式：湿法刻蚀、激光刻蚀和机械加工等。玻璃微通道湿法腐蚀钠钙玻璃湿法刻蚀：刻蚀深度5-500μm...2024-03-19 10:46:58
- 微流控粒子分选中圆形微凹槽容纳特性研究氧烷（Polydimethylsiloxanes，PDMS），模具由标准光刻蚀技术制作。前人研究中为了使粒子惯性聚焦到直通道两侧平衡位置，宽度一般设置...2024-03-14 15:32:19
- 基于高压微流控芯片的水合物相变与气泡演化研究（上）mm, 入口与出口分别位于左上角与右下角, 如图2a所示. 芯片孔隙由激光刻蚀得到, 颗粒直径为500.0 μm, 孔喉宽度为100.0 μm, 孔隙...2024-02-05 09:47:21
- 微流控纸芯片在环境分析检测中的应用了大型等离子仪器的桎梏，使等离子体装置的便携应用成为可能。刻蚀法主要有激光刻蚀法、喷墨剂刻蚀法两种。激光刻蚀法利用激光对具有疏水层的纸张进行选择性改变...2024-01-12 08:59:39
- 光刻胶的主要成分和技术参数，使光刻胶具有良好的流动性和覆盖能力。 （8）曝光速度。曝光速度越快，在光刻蚀区域晶圆的加工速度就越大，负光刻胶通常需5～15s时间曝光，正光刻胶较慢...2022-09-19 08:34:41
- 微流控芯片的制作技术方便，适于实验室使用的技术。 软光刻技术的核心是弹性模印章，可通过光刻蚀和模塑的方法制得。PDMS是软光刻中最常用的弹性模印章。软光刻的关键技术...2021-10-14 15:29:00
