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AZ10XT正型光刻胶 -
AZ10XT正型光刻胶
- 型号AZ 10XT
AZ10XT光刻胶应用于电镀工艺的超厚膜，高分辨率I线正型光刻胶。超厚膜，高分辨率，高纵宽比I线正型光刻胶，适用于微电镀工艺。
AZ10XT光刻胶应用于电镀工艺的超厚膜，高分辨率I线正型光刻胶。超厚膜，高分辨率，高纵宽比I线正型光刻胶，适用于微电镀工艺。
AZ 10XT光刻胶产品特点：
1) 高分辨率，高纵宽比
2) 高附着性，对电镀工艺高耐受性
3) 多种粘度可供选择
AZ 10XT光刻胶参考工艺：
前烘 ：100℃ 90秒以上 (DHP)
曝光 ：I线步进式曝光机/接触式曝光系统
显影 ：AZ400K显影液(1:4) 23℃ 60~300秒 Dip ：
AZ300MIF显影液23℃ 60~300秒
清洗 ：去离子水
后烘 ：120℃ 60秒以上
剥离 ：AZ剥离液及/或氧等离子体灰化
AZ 10XT光刻胶型号：AZ 10XT(粘度：220cP)、10XT(粘度：520cP)
AZ 10XT匀胶厚度范围：5-16um
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