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  • 光刻胶及光刻工艺流程前对显影液不可溶,而曝光后变成了可溶的,能得到与掩膜板遮光区相同的图形。负胶:反之正胶与负胶优缺点:根据光刻胶能形成图形的最小光刻尺寸来分:传统光刻...2017-08-23 10:15:02
  • 正负性光刻胶分类溶解在溶剂中,以液态形式保存,以便于使用。 1.光刻胶的分类    ⑴ 负胶  1. 特点  ·曝光部分会产生交联(Cross Linking),使...2017-08-22 13:05:14
  • 光刻胶基础知识、电子束、离子束等)的照射下,以交联反应为主的光刻胶称为负性光刻胶,简称负胶。凡是在能量束(光束、电子束、离子束等)的照射下,以交联反应为主的光刻胶...2017-08-21 10:09:09
  • 光刻胶(Photo Resist)知识大全须规定光刻胶的闲置期限和存贮温度环境。一旦超过存储时间或较高的温度范围,负胶会发生交联,正胶会发生感光延迟。 光刻胶的分类a、根据光刻胶按照如何响应...2017-08-10 14:58:20
  • 关于光刻胶你需要知道的一些参数须规定光刻胶的闲置期限和存贮温度环境。一旦超过存储时间或较高的温度范围,负胶会发生交联,正胶会发生感光延迟。...2016-11-15 10:07:20
  • 光刻胶的涂敷和显影束、电子束、离子束等)的照射下,以交联反应为主的光刻胶称负性光刻胶,简称负胶。凡是在能量束(光束、电子束、离子束等)的照射下,以降解反应为主的光刻胶...2016-10-20 09:00:02
  • 汶颢SU-8、AZ系列光刻胶简介620 光刻胶AZ 462010-15umMicroChem SU-8 负胶SU-8 201513-38umMicroChem SU-8 负胶SU-...2016-10-09 10:06:28
  • 如何选购光刻胶?窄的图像。微流控芯片刻蚀如何选择光刻胶呢?一般来说线宽的用正胶,线窄的用负胶! 相对而言,正性光刻胶比负性的精度要高,负胶显影后图形有涨缩,负性胶限...2016-09-30 09:59:46
  • 微流控芯片电泳技术处理。PDMS 微流控电泳芯片的制备在一载玻片上甩一层适当厚度的SU-8负胶,然后借助光刻技术制作微流控沟道的模具,在模具上浇注聚二甲基硅氧烷(PD...2016-09-21 15:45:43
  • 光刻胶的类型和优缺点分析束、电束、离子束等)的照射下,以交联反应为主的光刻胶称为负性光刻胶,简称负胶。凡是在能量束(光束、电束、离子束等)的照射下,以降解反应为主的光刻胶称...2016-08-23 10:12:23