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  • 纸芯片法如下:序号制作方法疏水材质最小亲水通道宽度(微米)优点/缺点需要仪器1等离子体处理技术AKD1000试剂成本低廉/需制作金属掩膜等离子清洗机,加热装...2020-01-06 15:12:58
  • 微流控分析芯片NC工艺、玻璃加工工艺、电极加工工艺等其他加工工艺。4.微流控芯片封合:等离子封合、热压封合、胶粘封合、阳极封合、化学处理封合。5.微流控芯片表征:显...2018-11-16 15:58:38
  • 汶颢股份产品目录(2018年)工艺   1.3.6 其他加工工艺1.4微流控芯片封合   1.4.1 等离子封合   1.4.2 热压封合   1.4.3 胶粘封合   1.4.4...2018-01-03 10:39:46
  • 国内外光刻胶发展及应用探讨一个重要的转折是发现含2个或3个脂环结构的聚合物能像芳香族聚合物一样经受等离子蚀刻,因此带有酸敏脂环侧挂基团的聚甲基丙烯酸酯就成了193nm光刻胶的基...2024-05-10 09:47:04
  • 基于微流控技术实现严格厌氧条件下的细菌单细胞培养与实时观测(上)(1)单细胞生长通道的制作 a. 准备 76.2 mm 的硅片,用低强度等离子处理 30 min。 b. 从冰箱中取出 SU-8 2002 光刻胶和 ...2024-04-22 10:01:06
  • 基于非牛顿微液滴的粒子封装及检测(上)模块, 用外径1 mm的打孔器在入口和出口处打孔, 然后将PDMS模块氧等离子体键合到玻璃显微镜载玻片(25 mm × 75 mm)上, 使用聚乙烯管...2024-04-08 11:01:20
  • AZ 5214E 光刻胶离子水30秒后烘:120℃ 120秒(DHP) 剥离:AZ剥离液及/或氧等离子体灰化AZ光刻胶刻蚀厚度从1μm到150μm以及更厚。高感光度,高产出率...2024-03-28 10:29:49
  • AZ P4620 光刻胶清洗:去离子水30秒后烘:120℃ 60秒以上 剥离:AZ剥离液及/或氧等离子体灰化AZ光刻胶刻蚀厚度从1μm到150μm以及更厚。高感光度,高产出率...2024-03-28 10:29:14
  • 光刻胶液浸泡,随后用去离子水清洗并用氮气吹干。除此之外还可以利用反应离子刻蚀或等离子表面清洗仪清洗。SU-8光刻胶的光刻工艺将 SU- 8光刻胶组分旋涂在基...2024-03-28 10:18:53
  • 进口 Microchem SU-8 光刻胶 2000系列 100-150液浸泡,随后用去离子水清洗并用氮气吹干。除此之外还可以利用反应离子刻蚀或等离子表面清洗仪清洗。Microchem SU 8光刻胶光刻工艺将 SU- 8...2024-03-28 10:12:32