- 光刻胶的特性及工艺流程因素有：光源、曝光方式 和 光刻胶本身（包括灵敏度、对比度、颗粒的大小、显影时的溶胀、电子散射等）。通常正胶的分辨率要高于负胶。(3)对比度指光刻胶...2022-09-23 08:42:39
- 微流控芯片的加工技术——光刻工艺上，用紫外光照射涂有光刻胶的基片，光刻胶发生光化学反应; ⑤用光刻胶配套显影液通过显影的化学方法除去经曝光的光刻胶。这样，可用制版的方法将底片上的二...2022-09-22 08:49:07
- 光刻胶SU-8涂胶工艺解析涂胶和显影是光刻前后的重要步骤，设备以不同工艺所用的光刻胶、关键尺寸等方面的差异来分类。光刻涂胶工艺无论在晶圆制造前道工艺还是封装测试后道工艺，都需要涂胶...2022-09-16 08:26:41
- 基于微流控技术的磁性微液滴制备方法光阻；再用无掩模激光直写机在光阻表面曝写出微流道图案，然后用AZ400K显影液显影，再以Cr的刻蚀液刻蚀出微流道图案；最后，利用丙酮去除表面光阻得到...2022-08-24 16:28:53
- 微流控芯片模板是如何加工的持芯片旋转使受热均匀。烘烤后轻取下芯片使其自然冷却至室温。 （11）硅片显影：使用与阴性光刻胶 SU-8 2025 配套的显影剂，将硅片在显影剂中...2022-07-22 14:28:36
- 影响匀胶机旋涂仪性能和厚度参数匀胶机旋涂仪对于从事微流控领域的研究者来说并不陌生，它可以用来制备膜厚度<10nm薄膜，在1-100um厚度的光刻胶沉积光刻工艺中也常常用到。在微流控...2022-04-22 15:19:59
- 磁性纳米粒子在生物医学方面的应用粒子在体外和体内细胞和分子成像中成为一类新的探针。在核磁共振中使用超顺磁显影剂具有产生比顺磁的显影剂更强的质子弛豫的优点。因而，需要注射到体内的显影...2022-04-22 15:06:31
- PDMS-玻璃键合芯片完整工艺上。图形转移的过程一般包含以下几个步骤：预处理、匀胶、前烘、曝光、后烘、显影和坚膜，主要的工艺流程如图 2 所示。本文的阳膜是在超净间内制作完成，其...2022-03-31 14:37:35
- 微反应器加工工艺加速器产生的x射线束通过确定的图形的掩模，将PMMA曝光，然后用湿法腐蚀显影，在聚合物上刻下立体模型，然后以导电的金属基片作为阴极，浸入电镀液进行电...2022-02-26 23:26:51
- 光刻技术种类及光刻胶的分类的图形)，选择性的对光刻胶进行曝光，利用光刻胶的感光性和抗蚀性，经过化学显影，制作出与掩膜版图形一致(负胶的情况)或者是相反(正胶情况)的光刻胶图形...2021-12-30 15:50:44
