- 光刻胶的应用简介以及我国光刻胶的发展现状料称为光刻胶。 光刻胶具有光化学敏感性，可利用其进行光化学反应，经曝光、显影等过程，将所需要的精细图形从掩模版转移至待加工的衬底上，然后进行蚀刻等工...2016-11-29 16:48:28
- SU-8光刻胶的光刻工艺加热曝光晶片10分钟而进行热处理，或曝光后烘烤。浮雕图像随后通过将晶片在显影液中浸渍10分钟随后用水漂洗和在空气中干燥而显影。 膜厚与曝光时间关系表...2016-11-28 10:30:08
- 普通实验室玻璃芯片的简易加工技术已广泛用于制作微流控芯片。玻璃微流控芯片的加工技术由掩膜制作、光刻曝光、显影、除铬、刻蚀、芯片切割与钻孔和热键合等步骤组成。一、掩膜制作 利用...2016-11-08 16:32:56
- 洁净室的构成以及等级划分标准级别：实验室中高温炉区、等离子区、测试区等要求达到千级等级；光刻、匀胶、显影工艺要求在百级超净间进行。微流控芯片加工实验室通常要求在洁净环境中，汶颢...2016-11-07 08:48:09
- 普通实验室玻璃芯片的简易加工技术已广泛用于制作微流控芯片。玻璃微流控芯片的加工技术由掩膜制作、光刻曝光、显影、除铬、刻蚀、芯片切割与钻孔和热键合等步骤组成。一、掩膜制作 ...2016-11-04 10:03:34
- 微流控芯片的检测技术?如红外线、微波、紫外线、X射线等等。通过光谱仪对光信息的抓取、以照相底片显影，或电脑化自动显示数值仪器显示和分析，从而测知物品中含有何种元素。 ...2016-11-03 09:23:18
- 光刻胶成分及其应用质、金属离子含量等有非常高的要求。光刻胶种类非常多，根据其化学反应机理和显影原理，可分负性胶和正性胶两类。基于光刻胶的化学结构，可以分为三种类型：光...2016-11-01 14:31:03
- 离心力驱动微流控芯片)、聚二甲基硅氧烷(PDMS)等。阳模的加工SU-8光刻胶在光刻、曝光、显影后可得到高深宽比的微结构,可直接用于微流控芯片阳模的制作。SU-8光刻胶...2016-11-01 10:31:27
- 光刻胶种类及其成分V时）、分辨率1.0μm、对比度0.95。限制分辨率的主要因素是光刻胶在显影时的溶胀。4、正性电子束光刻胶主要为甲基丙烯甲酯、烯砜和重氮类这三种聚合...2016-10-26 09:17:13
- 光刻胶使用过程中的注意事项虑此段的洁净度，而疏忽了该段的湿度控制，使得光刻胶涂覆的良品率比较低，在显影时光刻胶脱落严重，起不到保护阻蚀的效果。 4、 涂胶后产品的放置时间的控...2016-10-25 14:16:20
