- 微流控芯片产业化研究生物医学领域的研究人员所接受。 目前通用的芯片制作过程涉及到涂胶、曝光、显影、腐蚀、去胶、等离子体清洗和封接等步骤,耗时过长,其中若干步骤还需要人工...2018-01-16 09:15:18
- 【光刻百科】抗反射涂层 Anti-Reflection Coating (ARC)的物质[1] 。抗反射涂层主要包括：底部抗反射涂层、顶部抗反射涂层、可以显影的底部抗反射涂层、旋涂的含Si抗反射涂层、碳涂层等。 底部抗...2018-01-15 09:26:04
- 微流控SU-8光刻胶的紫外曝光长时间（至少一个月）的保存在盒子里和黑暗条件下，并且可以始终曝光，烘烤和显影。所以，曝光前的时间不是一个关键的参数。相反，曝光之后，在进行第二次SU...2017-12-21 08:58:06
- 光刻工艺所需药品及设备与操作步骤一五一十地转移到晶片上。因此在光刻成像工艺上，掩膜版、光刻胶、光刻胶涂布显影设备及对准曝光光学系统等，皆为必备的条件。一.光刻实验所需药品及设备 化...2017-12-21 08:48:35
- 微流控芯片的环氧树脂SU-8模具制作技巧曝光 6、 曝光后烘烤（光刻胶的第二次烘烤） 7、 显影 8、 硬烘烤（光刻胶的第三次烘烤）（可选） 9、校...2017-12-15 10:09:37
- 基于微流控液滴技术的载药缓释微球研究进展具有蜂巢结构的多孔微球。 研究表明碳酸氢铵的含量对微球半径以及孔径有 明显影响。Ma等分别制备了内水相含1%、5%、 10%碳酸氢铵的微球，发现随着...2017-12-15 09:49:43
- 微电极在不同条件下的制备技术（-200℃到150℃）好、清洗感觉的ITO导电玻璃→涂胶、前烘→覆盖掩膜版→紫外固化器中曝光→显影、竖膜→蚀刻→去膜、清洗汶颢股份提供多种材质超微电极制备技术整体解决方案...2017-11-01 15:46:09
- 光刻胶成分及用途基材表面。当紫外光或电子束的照射时，光刻胶材料本身的特性会发生改变，经过显影液显影后，曝光的负性光刻胶或未曝光的正性光刻胶将会留在衬底表面，这样就将...2017-10-31 17:26:19
- URE-2000S/A型光刻机1000W（直流）
9、最大胶厚：400mm（SU8胶，用户提供匀胶显影条件）
10、曝光方式：定时（倒计时方式）
外形尺寸：
1...2017-10-30 16:48:01
- 模塑法-微流控PDMS芯片制备S芯片制备方法流程有：①匀胶前烘 ②曝光 ③启动化学放大反应 ④后烘 ⑤显影+坚模 ⑥固化 ⑦剥胶 ⑧键合模塑法-微流控PDMS芯片制备流程图如下：...2017-10-26 17:30:29
