- 光刻胶使用过程中的注意事项充分挥发，使胶膜干燥以增强胶膜与基板表面的粘附性和胶膜的耐磨性。曝光时，掩模版与光刻胶即使接触也不会损伤光刻胶膜和沾污掩模膜，同时只有光刻胶干净、在曝...2016-10-25 14:16:20
- 光刻过程中的缺陷分析有的光刻工艺体系有了质的飞跃。但由于其工艺过程和内容的特殊性，同时器件的掩模版图形越来越复杂，图形面积越做越大，线条要求越来越细，微流控器件性能和精度...2016-10-20 10:37:19
- 微流控芯片加工需要哪些设备?胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程微通道结构临时“复制”到硅片上的过程。二、注塑...2016-10-19 10:49:04
- 光刻技术的基本原理phy（光刻） 意思是用光来制作一个图形（工艺）；在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。光...2016-10-10 10:13:26
- SU-8光刻显影工艺介绍光过的光刻胶已交联形成网状聚合物，因此显影液对它基本没有溶解作用，形成与掩模版相反的微结构图形。SU-8胶结构与显影条件和工艺参数密切相关，容易出现显...2016-08-31 10:04:12
- 光刻机工作原理和组成测器：检测光束最终入射能量是否符合曝光要求，并反馈给能量控制器进行调整。掩模版：一块在内部刻着线路设计图的玻璃板，贵的要数十万美元。掩膜台：承载掩模版...2016-08-24 11:03:30
- 微流控芯片制作与修饰phy（光刻） 意思是用光来制作一个图形（工艺）；在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。等...2016-05-27 13:53:09
- 光刻机的简单介绍phy（光刻） 意思是用光来制作一个图形（工艺）；在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。品...2016-04-18 11:54:16
- 光刻技术上，它包括光复印和刻蚀工艺两个主要方面。①光复印工艺：经曝光系统将预制在掩模版上的器件或电路图形按所要求的位置，精确传递到预涂在晶片表面或介质层上的光...2016-04-05 11:54:05
- 光刻机的分类phy（光刻） 意思是用光来制作一个图形（工艺）；在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。...2015-02-13 15:17:06
